汪涛这个人，搞通信出身，在中兴通讯深圳研究所干过副所长，后来又挂了复旦大学中国研究院特邀研究员的牌子。2025年他上了一档叫《两岸圆桌派》的节目，聊中美科技战。

节目请了大陆和台湾地区的几位专家，主题是全产业链升级走到哪一步了。汪涛在里头甩出一句话，挺扎耳朵的——中国光刻机研发正在走向＂清场式领先＂，一旦突破，海外对手连口汤都别想喝着。

＂清场式领先＂啥意思？就是中国企业杀进一个行业之后，靠规模和效率，把同行的活路一点点蚕食干净。这种事我们见过太多了，家电、光伏、新能源车，哪个不是这么过来的？汪涛的意思也不复杂：光刻机这块，中国本来没打算自己干，花钱买就完了。偏偏美国搞出口管制，路堵死了，那就只能自己上。被逼的，不是主动选的。

汪涛在节目里打了个比方，拿第四代核反应堆举例。国际上一共六种技术方案，美国挑了三种，欧洲也挑三种，日本只押一种。中国怎么选？全都要。光刻机也是这个打法。LPP、LDP、纳米压印、同步辐射，各种技术路线全铺开。有人觉得这么干太烧钱。但问题是，中国烧得起，因为人够多。

到底多少人在搞研发？国家统计局公布过一组数据：中国研发人员全时当量2013年就超过美国了，到2023年达到724万人年，连续11年全球第一。2024年全国研究与试验发展经费投入36326.8亿元，同比增长8.9%。钱和人都在猛涨，这就是汪涛反复说的＂穷举法＂能跑通的根本原因。你铺十条路，哪怕只跑通两三条，也够用了。

光刻机这东西，市场其实很小。全世界能造EUV光刻机的，就荷兰ASML一家。一台机器卖好几亿欧元，一年也就出货几十台。但它卡住了整个先进芯片制造的咽喉——7纳米以下工艺，没有EUV寸步难行。ASML用了三十年才走到今天，背后站着蔡司的光学镜头、美国Cymer的激光光源，还有台积电帮它做工艺验证。一整条全球协作链，缺一环都转不动。

中国怎么破局？先说光源。中科院上海光机所林楠团队走了一条不一样的路，没用美国Cymer那套二氧化碳激光器，改用固体激光器搞LPP-EUV光源，实验里转换效率做到了3.42%。跟ASML成熟产品比还差一截，但这条路绕开了被垄断的核心部件，算是走通了第一步。光源是EUV光刻机的心脏，心脏能自己跳了，后面的事情才有得谈。

另一条路更值得关注。国内有团队在搞LDP技术，全称叫＂激光诱导放电等离子体＂，原理跟ASML的LPP完全不同。简单说就是在电极之间蒸发锡，用高压放电把它变成等离子体，产生13.5纳米波长的极紫外光。这套方案设计更简洁，体积更小，能耗和成本都比LPP低。哈工大赵永蓬教授搞的放电等离子体EUV光源项目还拿了省级创新大赛一等奖，属于另一条腿在走路。

2025年底，外媒曝出一个大消息：深圳一处高度保密的设施里，一台EUV光刻机原型组装完成了。据报道，这台机器用的也是LPP技术路线，已经能生成13.5纳米极紫外光。但体积比ASML的同类产品大得多，目前还没能造出可用芯片，主要瓶颈卡在高精度光学系统上。研发团队里有前ASML工程师，也有国内刚毕业的年轻人，目标是2028年产出首批芯片原型。

ASML对这事什么态度？他们的CFO戴厚杰公开讲过，知道中国在搞光刻机替代，但认为造出先进EUV还需要很多年。这话说得挺稳，但资本市场不这么看。中国EUV试产的消息一传出来，ASML股价当天就跌了不少。钱是最诚实的，投资人用脚投票，比谁的嘴都靠谱。

再看ASML的财报。2025年全年净销售额327亿欧元，净利润96亿欧元，业绩还在涨。但ASML自己预计，2026年来自中国市场的营收占比会降到20%左右。要知道2024年中国占了36.1%。这个数字下滑，背后的信号很明确：中国客户要么在消化库存，要么就是国产设备开始顶上来了。不管哪种，对ASML来说都不是好消息。

国产光刻机在成熟制程上已经有了动静。上海微电子的600系列光刻机实现了90纳米工艺量产，28纳米浸没式光刻机也在研发中。干法DUV进入量产测试阶段，EUV进入了原理机搭建阶段。这些设备瞄准的是功率半导体、汽车芯片、物联网芯片这类成熟工艺市场，虽然离先进制程还有距离，但能填上一大块国内需求缺口。

SEMI的数据也能说明问题。2024年中国大陆半导体设备销售额达到495.4亿美元，同比增长35.37%，占全球比重从2015年的13.42%升到了42.29%。全球将近一半的半导体设备卖到了中国。华泰证券的预测是，2026年中国半导体设备国产化率将达到29%。刻蚀机和沉积设备跑得最快，光刻机是国产化率最低的一环，但越低说明空间越大。

汪涛在节目里还提了一点，他说中国企业在正常市场环境下，不会把所有领域都包圆，会给同行留空间。但出口管制这一刀砍下来，性质就变了。你不让我买，那我就自己造。自己造出来之后，凭成本优势和市场体量，对手的日子只会越来越难过。这不是中国想不想的问题，是被推到这个位置上了。

美国半导体协会自己的报告也提到，中国在EUV领域的技术代差，从五年前的四代缩短到了12个月。追赶速度确实超出了大多数人的预期。比尔·盖茨在CNN采访里也讲过类似的话，大意是美国单方面切断合作，只会倒逼中国企业自主开发。

从实验室原型到稳定量产，中间隔着的鸿沟非常大。ASML从2006年第一台EUV样机到2017年推出真正能量产的NXE:3400B，走了整整十一年。光刻机不是造出一台就赢了，它考验的是良率、稳定性、可靠性，是在极端环境下连续运转几千小时不出故障的硬功夫。这条路急不来。

但方向已经定了，不可能再回头。汪涛说的＂清场式领先＂，不是吹牛，是一种产业规律的总结。光伏走过这条路，电动车走过这条路，光刻机大概率也会走上这条路。区别只是时间长短。我们不需要盲目乐观，也没必要妄自菲薄。齿轮已经转起来了，剩下的交给时间。