中国科技又有大突破，全国首台国产商业电子束光刻机“羲之”问世啦！它在浙大余杭量子研究院完成研发，已进入应用测试阶段。这设备就像一支“纳米神笔”，能在硅基上“手写电路”，精度达0.6nm，线宽8nm，无需掩膜版就能灵活改设计，和国际主流设备精度比肩，让我国量子芯片研发有了“中国刻刀”。 近期我国光刻机领域喜讯不断，纳米压印设备技术指标超国际巨头，氮化镓/碳化硅集成也有进展。这会带动光刻胶、半导体设备、特种气体等板块发展，期待“羲之”带来更多惊喜！
中国科技又有大突破，全国首台国产商业电子束光刻机“羲之”问世啦！它在浙大余杭量子研究院完成研发，已进入应用测试阶段。这设备就像一支“纳米神笔”，能在硅基上“手写电路”，精度达0.6nm，线宽8nm，无需掩膜版就能灵活改设计，和国际主流设备精度比肩，让我国量子芯片研发有了“中国刻刀”。 近期我国光刻机领域喜讯不断，纳米压印设备技术指标超国际巨头，氮化镓/碳化硅集成也有进展。这会带动光刻胶、半导体设备、特种气体等板块发展，期待“羲之”带来更多惊喜！
