对中国自研光刻机技术指手画脚？究竟动了谁的蛋糕

近几年，中美在芯片领域的博弈越来越激烈、越来越紧张，就连不关注科技的朋友也知道了晶圆、光刻机等等专业的材料和设备。都知道，光刻机是制造芯片的核心设备，而美国为了阻止中国芯的发展，以光刻机为挟，牢牢卡住了我们的“咽喉”。

ASML公司作为全球唯一能够独立制造EUV光刻机的顶尖芯片制造设备厂商，也不能继续供货给中国。在这样的背景之下，中国科技企业不得不走上了自主研发的道路。

但没想到，中国自研光刻机技术，竟遭到了批评。美、荷前后脚发声，指责中国自研光刻机技术会影响全球半导体产业的发展，不允许有一个国家能够独立掌握全产业链技术。不能买，自己造也有错吗？

实际上，越阻止中国干一件事，就越说明，对方害怕了。虽然西方曾吐槽中国自研光刻机技术是通过“逆向工程”，缺乏创新，但在任何行业，要想追赶上行业标杆，不都应该从学习模仿开始吗？

更何况，中国科研一开始确实是向西方学习，但站在巨人的肩膀上，保持创新，用新的视角、新的思路重新解题，才是中国科学家、工程师们在做的事情。

美、荷之所以坐不住了，就是因为看到了中国科技的快速进步。几年前，ASML公司的高管也好，美半导体专家也好，都并不看好中国自研光刻机，字里行间都是对中国自研光刻机技术的鄙夷和轻视。ASML公司也毫不掩藏自己的傲慢，直言“中国短期内是不可能掌握光刻机技术”。

然而，短短几年的时间，似乎一切都变了。最让ASML无法接受的是，中国不仅实现了光刻机技术的突破，更实现了供应链的全面突围。浙江一家企业做出了媲美德国蔡司的镜片，江苏工厂的光刻胶良品率追上了日本JSR。这些看似不起眼的零部件，正在组成完整的国产替代链。

而中芯国际用DUV光刻机实现5纳米量产，堪称“教科书式的迂回战术”。这就像用普通相机拍出专业效果，虽然设备受限，但通过多重曝光和工艺优化，硬是走出了独特技术路线。华为最新手机处理器就是明证，性能丝毫不逊色。

现在回头看，西方的技术封锁，究竟锁住了谁？答案逐渐清晰了。对中国而言，技术封锁反而成了最好的“催化剂”，正推着中国科技快速向前。2018年之前，很多企业还抱着“造不如买”的想法，现在整个行业都清醒了，牢记一点“核心技术买不来”。虽然我们还没能攻克先进的光刻机技术，和西方之间仍然存在差距，但主动权似乎已经易主了。