前几天，全球第三大光刻机巨头尼康发布了2025年财报，数据显示，亏损高达850亿日元，全年仅出货10来台光刻机，真的是亏麻了。

而日本另外一家光刻机厂商佳能，2025年在光刻机这一块的日子也不太好过，虽然全球的半导体大增长，但佳能在这一块的业务不增反降。

而我们查看整个2025年全球光刻机的市场，会发现，到2025年时，日本佳能、尼康这两大企业，其在光刻机上的份额，大约还有15%左右。

荷兰ASML这一家企业，就拿下了85%的份额，是日本这两家的五、六倍，完全是远远的将它们甩到了身上。

不仅仅是份额领先，在技术上，同样也是领先，ASML领先佳能，至少是4代，领先尼康也至少是2代以上的技术，这完全已经不是一个层面上的竞争了，尼康、佳能落后太远太远了。

事实上，在30多年前的上个世纪80年代末、90年代初的时候，日本光刻机是相当风光的，那时候尼康（Nikon） 和 佳能（Canon）这两家，占了全球90%左右的市场，尼康一家就达到了60%左右的份额，佳能也超过了30%。

而ASML在当时还真的只是小弟中的小弟，完全不是尼康、佳能的对手，技术不行，市场更不行。

当时尼康、佳能已经研发出了DUV光刻机，采用193nm波长，然后在研发采用157nm波长的光刻机了，它们不断的减少光源波长，用此来推进技术进步。

但这时候台积电的林本坚提出，不一定要去研发157nm波长的光刻机，直接用193nm波长的光源就行了，只要在晶圆上加一层水，利用水的折射率，让193nm波长的光线经过水的折射变成了134nm，这样比157nm波长更小，分辨率更高，且更容易。

但尼康、佳能已经骑虎难下，在157nm波长上花费了几十亿研发费用，不可能放弃，它们认为林本坚说的不一定对，也不愿意去研发。

反而是ASML这个光脚的不怕穿鞋的，觉得反正我弱小没希望，不如拼一把，和台积电一起去折腾这个浸润式。

谁知道，一举成功，浸润式DUV光刻机横空出世，而尼康、佳能的157nm波长的光刻机，反而一直研发不出来，于是ASML一跃成为大哥。

得到台积电支持之下，ASML更是市场大增，后来又与美国合作，研发出EUV光刻机，再绑定了全球供应链，让尼康、佳能再无也法翻身，只能死守DUV光刻机技术，越混越差了。

到如今，佳能、尼康两家，在光刻机这一领域，已经没有太多机会了，佳能转而研发NIL技术，尼康几乎放弃，两者都是大溃败，这说明，在全球科技市场，只要没创新，跟不上时代，就要落后，最后甚至死掉。