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硬核梳理:光刻机市场人气代表最新行业动态热点一文全解析梳理。主要逻辑:光刻机堪称

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未来5年最吃香的专业,我觉得这几个得上榜。首先是人工智能专业,随着科技发展,A

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工科的热门专业就业前景那叫一个广阔!就说集成电路/微电子科学与工程,这可是搞芯片

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近期,关于中国自主研发的浸没式DUV光刻机启动量产的传闻直接引发全球半...

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看外围消息,几乎确认了,上海微已经量产浸润式DUV光刻机了,SSA800系列的。

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看外围消息,几乎确认了,上海微已经量产浸润式DUV光刻机了,SSA800系列的。该光刻机不需要多重曝光可直接制造28nm芯片,多重曝光可用于7nm甚至更先进芯片,良率据称高达80%以上,已经开始量产交付了,今年5台,明年20台。全球能量产EUV光刻机的只有ASML一家,能量产浸润式DUV的有ASML和尼康两家中国大陆曾是ASML最大买家,一度占其营收49%。现在国产化一起了,外围开始垮是合理的。浸润式DUV与干式DUV的区别是在晶圆前加一层水,让193nm波长光线变成134nm。背后的意义很明确啊上海微量产,ASML在中国市场的DUV光刻机业务将受到重大冲击,所以ASML今天躺很合理,存储躺也是合理的,因为存储芯片用DUV。简单说就是:国产光刻机快突破了。美股
长鑫只是第一张牌。往下翻——长江存储、宇树科技、燧原科技、上海微电子、蓝箭航天、

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长鑫只是开胃菜!五大史诗级巨无霸排队上市。很多散户还在纠结周一长鑫科技上市的虹吸

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AI算力拉动先进封装高景气!完整产业链清单整理AI算力、HBM需求持续爆发,先进

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AI算力拉动先进封装高景气!完整产业链清单整理AI算力、HBM需求持续爆发,先进封装是当下核心赛道,整条产业链细分环节全部梳理清晰,建议收藏参考。
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AI算力持续发力!先进封装产业链全景梳理,细分赛道清晰可见!随着AI算力需求不断

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AI算力持续发力!先进封装产业链全景梳理,细分赛道清晰可见!随着AI算力需求不断提升,先进封装行业迎来发展窗口期。作为芯片性能升级的关键环节,整条产业链细分分支众多,今天把上下游布局方向整理清楚,方便大家参考。
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谷歌TPU+OCS光交换全产业链梳理|一文看懂核心标的核心背景谷歌新一代AI算力

谷歌TPU+OCS光交换全产业链梳理|一文看懂核心标的核心背景谷歌新一代AI算力

谷歌TPU+OCS光交换全产业链梳理|一文看懂核心标的核心背景谷歌新一代AI算力集群同时推进两大核心技术:TPU算力芯片、OCS光网格交换机,解决万卡级AI集群互联带宽、时延、功耗痛点,整条产业链覆盖光学器件、PCB、先进封装、液冷散热、整机五大环节,以下按赛道分类解读。一、上游光学器件(OCS核心硬件)1.腾景科技OCS光学基石,纳米级棱镜、光栅供货海外头部光企,北美云厂送样测试,有望切入Meta、微软供应链。2.光库科技薄膜铌酸锂调制器支撑800G+速率,适配OCS多波长传输,DCI场景可降本30%。3.长芯博创800G硅光子产品完成谷歌验证,2025Q3规模化量产。二、PCB与电源模块(TPU算力板基础)1.高端PCB•沪电股份:谷歌TPU算力板核心供应商•深南电路、胜宏科技:供应TPUv6/v744层高端PCB,手握大额订单•中富电路:TPU电源模块PCB核心配套2.电源模块新雷能:切入TPUV7供应链,提供二次、三次电源。三、先进封装+散热方案(TPU高功耗刚需)先进封装•工业富联:TPU封装代工+AI服务器整机组装•长电科技:2.5D/3D先进封装,芯片集成服务液冷/均热散热•英维克:液冷中标谷歌新加坡数据中心•思泉新材:超薄VC均热板通过谷歌认证•大元泵业:液冷屏蔽泵已拿到谷歌订单•博杰股份:液冷零部件通过海外云厂商验证,小批量阶段四、OCS整机制造(光交换设备核心)1.德科立OCS整机全链路集成,光子路由引擎时延大幅优于电交换,2025年有望斩获5000台整机大额订单。2.光迅科技覆盖OCS芯片、光开关、整机全链条,参与国内光网络示范项目。3.恒为科技MixNet光电混合架构,适配万卡级GPU集群重构。4.中际旭创1.6T硅光引擎适配OCS交换机,CPO方案损耗极低,2025Q4量产。五、技术路线细分标的赛微电子:国内量产MEMS光开关,但谷歌采用液晶路线,存在技术替代风险,需持续跟踪海外厂商路线选择。六、其他配套光通信企业凌云光、太辰光:光通信器件间接配套OCS产业链,业务弹性偏弱。赛道弹性分层总结✅高弹性主线1.OCS光器件整机:德科立、中际旭创、光库科技2.TPU高端PCB:沪电股份、胜宏科技、深南电路3.液冷散热(订单兑现):大元泵业、英维克⚖️稳健配套先进封装(长电、工业富联)、电源模块(新雷能)、上游光学元器件(腾景科技、长芯博创)⚠️风险提示1.海外厂商技术路线变更(如赛微MEMS与谷歌液晶方案路线冲突);2.验证周期拉长、量产订单落地不及预期;3.行业竞争加剧,价格压缩利润。
我们深切缅怀全国著名劳动模范,100位新中国成立以来感动中国人物之一,最美奋斗称

我们深切缅怀全国著名劳动模范,100位新中国成立以来感动中国人物之一,最美奋斗称

我们深切缅怀全国著名劳动模范,100位新中国成立以来感动中国人物之一,最美奋斗称号获得者,原航天工业部771所工程师罗健夫同志逝世44周年(1935年9月21日-1982年6月16日),男,汉族,湖南省湘乡县人,中共党员。生前系原航天工业部771所工程师。1965年,开始研究微电子技术。随后投入新中国科研建设事业中,为中国科研事业做了伟大贡献,是中国新一代知识分子的楷模,被誉为“中国式的保尔”。1972年成功研制出中国第一台“图形发生器”,填补了国内电子工业的一项技术空白。1975年,他带领团队又研制成功了“Ⅱ型图形发生器”,并继续研制“Ⅲ型图形发生器”。后来他获得全国科学大会奖,被追授全国劳动模范荣誉称号。2019年9月25日,被评选为“最美奋斗者”。基本信息中文名罗健夫国籍中国民族汉族出生日期1935年9月21日逝世日期1982年6月16日展开人物生平1935年,罗健夫出生于湖南省湘乡县。1950年距初中毕业尚差一学期,罗健夫带头报名参军。在部队利用业余时间,学完初中三年二期及高中三年全部课程。1951年7月参军。1956年考入西北大学原子物理系原子核物理专业,学业成绩优异,工作积极。1959年4月14日加入中国共产党,毕业后先后在母校及西安电子计算机技术所、骊山微电子公司工作。1962年12月调中国科学院西北计算机所。1965年,开始研究微电子技术,1968年,参加北京电机厂技术攻关协作。1969年,罗健夫作为课题组组长开始研制国家空白项目——图形发生器。“文革”力排干扰,以顽强毅力,短时间内掌握第二外语,攻读电子线路、自动控制、精密机械、应用数学、集成电路等多门课程,有时整日不出工作室,饿了啃块馒头,困了就躺地板打个盹。1972年、1975年,先后研制出第一台“图形发生器”、“Ⅱ型图形发生器”,为我国航天工业作出重大贡献。1978年获全国科学大会奖后,他再接再厉,继续研制Ⅲ型图形发生器,至1981年10月已独立完成全部电控设1982年6月16日,正在调试设备的罗健夫突然病倒,被诊断为晚期淋巴癌,医治无效去世,年仅47岁。个人事迹他平日酷爱阅读《钢铁是怎样炼成的》,并以书中主人公保尔为榜样,身体力行,忘我工作,从不计较个人得失利害,从不表现自己,多次自动放弃评聘高级职称和提升干部的机会,颁发奖金分文不受,被同事誉为“中国式保尔”。攻关者的胸怀罗健夫在骊山微电子公司“出名”,是在“文革”当中的l970年。罗健夫接受了一项重要的科研课题,研制图形发生器,并担任这一课题组的组长。任务是紧迫的,然而环境却是乱哄哄的。罗健夫不由紧锁眉头,他反复思忖着:这是个填补国内空白,赶超世界先进水平的项目,可是眼下困难很多。第一,自己过去是学核物理的,搞电子设备不在行;第二,图形发生器是国外“禁运”产品,技术被严密封锁,国内无图纸,无资料,无样机,一切都要从零开始;第三,动乱的年代,正常的科研秩序被打乱,工作常常受到干扰。罗健夫对工作兢兢业业,脚踏实地,把个人的待遇、荣誉、地位置之度外,他是Ⅰ、Ⅱ、Ⅲ型图形发生器课题负责人,主要设计者和研制者,但在呈报科研成果时要求不署自己名字,3000元奖金也一分不取。婉言谢绝吸收他为中国电子学会成员,并两次让出评高级工程师的机会。在攻关日子里,罗健夫每天只睡四五个小时,全部业余时间用来刻苦读书、翻阅资料、思考设计。为了事业,罗健夫把个人生活简化到不能再简化,身上穿戴的仍是当年部队发的旧军装。家人为他添置衣物的钱,常常被他用来买了科研需要的书籍。一生不染的表率建设社会主义精神文明,犹如奔向共产主义前程的万里长征。这个长征,也有“雪山”、“草地”,也要克服艰难险阻,冲破围追堵截。党内不正之风、社会不良风气,就是“思想长征”路上的障碍。在一个一个的障碍面前,有人抱怨上苍,有人听天由命,也有人失足落水……。然而,罗健夫这个普普通通的共产党员,1951年参军时抱定的“牺牲个人的一切”的决心,1959年入党时写下的“忘我无私地工作”的誓言,却矢志不移,本色不变。人物荣誉1978年获得全国科学大会奖。1982年下半年,《工人日报》,《光明日报》及其他国家报刊连续刊登其生平事迹。他的事迹在全国人民、特别是在广大知识分子中引起极大反响,成为新一代知识分子学习的榜样和楷模。1983年,国务院追授全国劳动模范称号,他被誉为“中国式的保尔”。2009年9月14日,他被评为100位新中国成立以来感动中国人物之一。2019年9月,罗健夫人选“最美奋斗者”建议人选。2019年9月25日,被评选为“最美奋斗者”。后世纪念在中国共产党的十七大召开之际,在大力推进航天企业文化建设的关键时期,771所在全所范围内展开了以“弘扬罗健夫精神,传承航天文化,建设经济强所”为主题的系列教育活动。铜像揭幕仪式将系列活动推向了高潮。为纪念全国劳动模范、航天科技知识分子的优秀代表罗健夫同志逝世25周年,航天时代公司771所隆重举行了纪念罗健夫逝世25周年铜像揭幕仪式。中共陕西省委、西安市委有关领导,航天科技集团公司有关部门及航天时代公司领导一同为铜像揭幕。
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下半年最有投资价值的12支股票,一,半导体①华微电子,现价为16.79元元②格科

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先导基电磷化铟衬底技术壁垒和国产替代价值几何?先导基电(600641.SH)

先导基电磷化铟衬底技术壁垒和国产替代价值几何?先导基电(600641.SH)本身不直接生产磷化铟衬底,其核心价值在于‌拟通过增资控股广东先导微电子‌,从而将后者作为国内领先的磷化铟全产业链资产注入上市公司。因此,分析对象实质为‌先导微电子的磷化铟业务‌。‌‌核心技术壁垒:资源+工艺双护城河先导微电子在磷化铟衬底领域构建了极高的进入门槛,主要体现为“上游资源掌控”与“中游晶体生长”的双重壁垒:‌上游资源绝对垄断‌:依托控股股东先导科技集团,掌握全球约‌60%的铟金属市占率‌。铟占磷化铟质量比约51%,且为稀散金属,无独立矿山。先导实现了从矿渣回收、提炼到‌7N-8N超高纯铟‌的全流程自主可控,这是其他衬底厂商(如云南锗业、有研新材)依赖外购原料所不具备的底层成本与供应链安全优势。‌大尺寸单晶生长工艺突破‌:掌握自主研发的‌垂直梯度凝固法(VGF)‌核心技术,是国内首家实现‌6英寸磷化铟衬底‌稳定量产的企业。其产品在‌位错密度、平整度(TTV)、表面洁净度‌等关键指标上达到国内领先、国际先进水平,部分批次指标优于海外同行,解决了大尺寸晶体易开裂、缺陷多的行业痛点。‌垂直一体化协同验证‌:拥有从“高纯原料→衬底→外延→光芯片”的完整闭环。衬底质量可直接反馈至内部外延线进行快速迭代优化,大幅缩短研发周期,这是单一衬底厂商无法比拟的效率壁垒。‌‌国产替代价值:战略刚需与稀缺性溢价在AI算力驱动下,磷化铟是800G/1.6T光模块不可替代的核心材料,国产替代价值极高:‌填补高端产能缺口‌:2026年全球磷化铟衬底供需缺口超‌70%‌,高端产能被日本住友、美国AXT等垄断,国产化率不足5%。先导微电子年产‌24万片‌(2-6英寸),且6英寸产能国内领先,是少数能批量供应高端大尺寸衬底的国产厂商,直接承接海外断供风险下的订单转移。‌定价权与成本优势‌:凭借自产超高纯铟原料,其衬底生产成本比纯加工型厂商低‌15%-25%‌,报价可比海外巨头低‌25%-35%‌,在价格敏感与供应链安全并重的当下具备极强竞争力。‌战略安全地位‌:作为工信部重点培育中试平台企业,先导微电子是AI算力、6G通信及军工航天领域的‌供应链安全底座‌。其资产注入先导基电后,将打造A股唯一的“半导体设备+化合物半导体材料”双轮驱动平台,估值逻辑从单一设备商向平台型巨头重构。‌‌‌结论‌:先导基电通过控股先导微电子,实质上掌握了磷化铟赛道的‌资源垄断权‌与‌大尺寸量产技术‌。其国产替代价值不仅在于填补70%的供需缺口,更在于构建了从矿产到器件的‌全链条自主可控体系‌,是AI时代极具稀缺性的战略资产。需关注上交所对此次增资收购的问询进展及最终落地情况。‌‌
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一篇看懂光芯片/光模块/NPO刷到N次的“光芯片/光模块/NPO”,今天终于搞懂它们到底是干嘛的了光芯片是内核,光模块是封装,NPO就是把它们贴脸放一起的究极形态!AI大模型跑得飞快,全靠这一套给算力“提速”!难怪最近这么火,原来它们才是AI算力时代的隐藏buff啊!
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荷兰3月一刀切断28nm光刻机所有供应链,零件、维修、新机全锁死。 很多人以

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荷兰3月一刀切断28nm光刻机所有供应链,零件、维修、新机全锁死。很多人以为这是致命打击,中国成熟制程要被掐断命脉了。大错特错!荷兰这刀没砍死我们,砍死的是ASML自己上百亿欧元的中国订单,逼出来的是中国浸没式光刻机完成流片验证——封锁方亲手给对手装上了发动机!就在4月15日,ASML发布了2026年第一季度财报。数据显示,一季度ASML总共卖出79台光刻机,其中浸润式ArFi光刻机只卖了17台,比上季度整整少了20台。最刺眼的一个数字是,中国大陆市场的采购份额,从2025年第四季度的36%,断崖式下跌到了19%。仅仅三个月时间,中国就从ASML全球第一大客户,直接掉到了第三名。要知道,就在2024年,中国大陆还一度贡献了ASML总销售额的近50%。2024年和2025年两年时间,ASML光从中国市场赚的钱加起来就接近200亿欧元。中国客户排着队下单,买设备、买服务、买零部件,养活了ASML三成以上的营收。现在倒好,荷兰政府一声令下,ASML亲手斩断了自己最大客户的订单上升曲线。摩根大通估算,如果美国的MATCH法案全面落地,ASML的每股收益可能还要再跌10%。ASML的CFO罗杰·达森在财报电话会上也不得不承认,今年业绩上调的动力主要来自非中国市场。这话的潜台词再清楚不过:中国那边的钱,以后是不太敢指望了。更让荷兰人没想到的是,就在他们宣布全面封锁的六天前,科技部部长阴和俊带来了一个足以改变整个行业格局的重磅官宣。他明确表示,国产28纳米沉浸式光刻机已经通过全流程工艺验证,正式进入量产交付阶段,核心部件国产化率突破90%。同时,14纳米光刻机已经完成核心技术攻关,进入样机调试阶段,面向7纳米及以下先进制程的EUV光刻机,核心光学系统和高精度双工件台也取得了阶段性重大突破。这三句话,每一句都像一记响亮的耳光,打在了那些唱衰中国芯片产业的人脸上。很多人可能还停留在"国产光刻机还在实验室里、离量产还早"的老印象里。但形势早就已经翻篇了。上海微电子的SSA800系列28纳米浸没式DUV光刻机,早在今年年初就已经交付给中芯国际、华虹半导体等头部晶圆厂进行实战测试,不是实验室里摆拍的样子货。根据公开的测试数据,这台设备的良率稳定在90%以上,套刻精度小于等于8纳米,核心零部件国产化率超过85%。通过多重曝光技术,它甚至能够触及7纳米等效制程。虽然在产能和稳定性上,和ASML的同档次设备还有一定差距,但已经完全能够满足国内绝大多数成熟制程芯片的生产需求。而且国产光刻机还有一个ASML永远比不了的优势,那就是价格。国产28纳米光刻机的售价,大概只有ASML同档次产品的一半左右。如果算上后续的服务费和配件费用,长周期使用成本还要再低一大截。其实荷兰人自己心里比谁都清楚,封锁根本就阻止不了中国芯片产业的发展,反而只会加速中国的自主研发进程。ASML的CEO克里斯托夫·富凯早就公开警告过,如果不让中国买光刻机,中国就会自己研发,而且最终一定会成功。到那个时候,ASML就会彻底失去全球最大的市场。但在美国的持续施压下,荷兰还是选择了饮鸩止渴。他们以为只要掐断了设备供应,就能永远维持自己的技术垄断地位。可他们忘了,中国是一个拥有14亿人口、完整工业体系的大国。任何技术封锁,最终只会激发我们更大的斗志。过去几十年,我们被封锁过原子弹,被封锁过空间站,被封锁过高铁技术。结果呢?我们不仅全都搞出来了,而且很多领域还做到了世界领先。光刻机也一样。以前我们总觉得,能买就买,没必要自己花那么多钱去研发。但荷兰一次次的得寸进尺,从禁止EUV光刻机出口,到收紧14纳米DUV的审批,再到现在连28纳米、45纳米的成熟制程设备都全面封锁,终于彻底打消了我们依赖进口的幻想。现在好了,全国上下一条心,集中力量办大事。从离子注入机到刻蚀设备,从薄膜沉积到光刻胶,整个半导体产业链的国产化进程都在以惊人的速度推进。短短一年时间,中国半导体装备的国产化率就从25%跃升至35%,部分核心环节甚至突破了40%。荷兰这一刀,看似凶狠,实则愚蠢。他们以为能掐断中国芯片产业的命脉,结果反而亲手给中国半导体产业装上了自主发展的发动机。他们以为能保住ASML的垄断地位,结果反而把自己最大的市场拱手让给了国产设备。历史已经无数次证明,技术封锁从来都不是遏制一个国家发展的有效手段,反而只会成为这个国家加速崛起的催化剂。今天你不卖我光刻机,明天我就自己造出来,而且造得比你更好、更便宜。到那个时候,后悔的只会是你自己。
‼️🇷🇺脖子上的套索越收越紧俄罗斯最大的微电子生产商“Elem

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