荷兰阿斯麦公司看到这个新闻，估计头都大了！我们都知道，西方现在在半导体领域，其实就只剩下一高端光刻机这一张牌了。

第二十六届中国国际工业博览会上，朗道燧岩第一次公开展示了EUV光源系统样机。国产化率90%，工作人员说，距离量产还需3到5年。

这台样机摆在创新科技馆比较显眼的位置。据解放日报报道，现场工作人员介绍，绝大多数核心零部件都是自主研发，技术路线跟国际领先厂商一致，已经能用于芯片曝光测试了。

EUV光源说白了就是高端光刻机的核心部件。7纳米以下的芯片想造出来，没它不行。这东西长期受海外技术垄断和出口限制，是咱们在高端芯片制造上被制约的关键环节之一。

朗道燧岩这家公司可以了解一下。2024年成立，创始人是清华气体放电等离子体实验室出来的王豪博士团队。

2025年10月拿到张江高科旗下燧玥创投的天使轮融资，2026年1月完成天使+轮，7月完成A轮，沃衍资本、中芯聚源都投了。资本愿意往这个方向砸钱，说明技术路线被认可了。

朗道燧岩官网公布了低功率EUV光源系统FlintNano LPP-OXXO的技术参数。驱动激光功率1000瓦，EUV能量大于15瓦，持续工作超过100小时。

不过得说清楚，这些是官网公布的产品规格，不是工博会现场展出样机的实测数据，现场没有公布具体功率。

这个数据什么水平？阿斯麦2018年推出的商用EUV光源是250瓦，现在他们最新的产品已经到600瓦级别了。

差距摆在这。商用要求光源功率到数百瓦级别，还得长时间稳定运行。从15瓦到几百瓦，不是简单加个零的事，等离子体稳定性、光源寿命、系统集成可靠性，每一项都得重新啃。

朗道燧岩自己也清楚。现场工作人员明确说，当前主要挑战在于提升输出功率和长期运行稳定性，距离量产还要3到5年。

阿斯麦那边什么情况呢。阿斯麦CEO富凯今年5月就公开讲过，收紧对华出口管制只会加速中国自主研发替代设备的步伐。

他当时在比利时安特卫普参加科技活动时表示，如果把一个人放到没有食物来源的环境里，他迟早得自己想办法种出东西来，这是生存层面的问题。

阿斯麦在全球光刻机市场的份额是95%，日本佳能和尼康加起来也就5%。这种优势是靠三十年研发堆出来的，背后站着蔡司和通快这些欧洲供应商。

但垄断归垄断，一旦有人从零开始把东西做出来，哪怕功率还不够，哪怕稳定性还差一截，后面的迭代就是时间问题了。

有法国学者在《回声报》上分析过，说这场博弈到最后可能有两个输家。一个是欧洲，出口限制会让他们丢掉一部分中国市场。另一个是美国，短期能拖慢中国，长期反而会推动中国在尖端科技领域往前走。

这话不是没依据的。朗道燧岩的样机摆在那里，90%国产化率也摆在那里。从实验室到产业化，第一步已经迈出去了。

阿斯麦头疼的不光是这一件事。今年第一季度，阿斯麦中国大陆市场的净系统销售额占比降到了19%，环比降了17个百分点。阿斯麦自己预计2026年在中国市场的销售额占比在20%左右，跟2025年的33%比明显缩水。

中国海关的数据也显示，今年首季从荷兰进口的光刻设备同比下降了24.3%。一边是中国市场在收缩，一边是中国自己的技术在往前走，两头夹着，阿斯麦的日子确实不好过。

EUV光源从15瓦做到250瓦，阿斯麦走了很多年。咱们起步晚，但起点不算低。技术路线验证过了，核心零部件自己能做了，剩下的是工程上的硬仗。3到5年，等着看吧。