国际芯片界的大佬都紧盯着中国芯片的发展动态。 权威专家林本坚在产业报告中指出,利用DUV光刻机制造5nm芯片,技术上是可行的,可成本高昂,良品率却不尽人意。就拿华为麒麟9000S芯片来说,借助DUV光刻机搭配双重图案技术,实现了等效7nm工艺。 虽然多重图案化技术是突破5nm技术的可行途径,技术难题、成本压力和产量瓶颈都摆在眼前。据说国内制造5nm芯片成本比台积电高近一半,且DUV光刻机分辨率远不及EUV光刻机。不过中国芯片人从不畏惧,坚持钻研。只要我们持之以恒,定能突破技术封锁,实现芯片领域的自主发展。
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