俄罗斯EUV光刻机是小批量光刻机 俄罗斯的EUV光刻机比ASML差多了。它每小

俄罗斯EUV光刻机是小批量光刻机 俄罗斯的EUV光刻机比ASML差多了。它每小时做60个晶圆，一年大概做2000万个芯片，跟ASML差远了。ASML效率高，产量大。俄罗斯的光源功率只有3.6千瓦，ASML是40千瓦，算下来俄罗斯的输出光源才100瓦，所以产量低。虽然俄罗斯的光源波长11.2纳米，比ASML的13.5纳米短，理论上可以更精细，但功率低，效果差。 俄罗斯光刻机有个优点，就是它用激光打氘气，不像ASML打锡片，这样残留物少，刻出来的图案更干净。但它每小时60个晶圆，根本不够大规模生产，跟ASML差太多。 中国的光刻机进展快。现在有几种光源在搞，最有希望的是10千瓦的光源。如果成功，效率和产量会大幅提高。2022年中国的原型机光源60瓦，产量每小时20片晶圆，比俄罗斯强，但和ASML差远了。有人说中国技术已经完成85%，再等几年可能会有突破。 总的来说，光刻机竞争激烈。俄罗斯有些独特技术，但产量差；中国进展快，但还需要时间。现在全球还是ASML在主导，其他国家的机器想超越它，还得再等。 各位有什么看法，欢迎在评论区讨论！光刻机不是梦 光刻机自研之路 高端光刻机突破