ASML棺材板钉死！美中黑科技让光刻机彻底淘汰，光刻机的葬礼即将举行！美国劳伦
美中黑科技让光刻机彻底淘汰， 光刻机的葬礼即将举行！美国劳伦斯实验室研发的BAT铥激光器，可将EUV光源效率提升10倍，能耗锐减；挪威Lace Lithography公司更祭出原子光刻技术，声称分辨率领先EUV十五年，成本能耗双杀。纳米压...
芯片厂商现在可能心头一紧。2026年国产EUV光刻机量产计划被热议，新凯来
2026年国产EUV光刻机量产计划被热议，新凯来设备在华为工厂试产，数据说良率达到70%，产能超国际水平25%，成本降低50%。哈工大的DPP技术确实绕开了一些专利，设备体积小了30%，效能提升。中芯国际导入30台设备的计划启动，2028...
最近在翻阅改革开放相关书籍的时候，发觉一个令人震惊的事实：原来如今在光刻机芯片、
最近在翻阅改革开放相关书籍的时候，发觉一个令人震惊的事实：原来如今在光刻机芯片、大飞机(发动机)以及导航等方面卡我们脖子的项目，早在数十年前就已经立项了，遗憾的是在改革开放初期全都被停掉了。那时候穷啊，口袋里没几...