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#专家称中国在工业领域的成就被低估##烽火问鼎计划# 2025年5月我国大陆地区完成支撑7纳米工艺的ARF的DUV光刻机、实现稳定生产。 ArF 193nm 干式/湿式光刻机原生分辨率≤65nm 套刻精度≤8nm 原生直做65nm、45nm 成熟工艺加多重曝光（多次叠加刻蚀）可以向下兼容做到32nm → 28nm → 22nm → 14nm

2026-09-18 00:22:42 寒霜傲雪科技

专家称中国在工业领域的成就被低估烽火问鼎计划 2025年5月我国大陆地区完成支撑7纳米工艺的ARF的DUV光刻机、实现稳定生产。 ArF 193nm 干式/湿式光刻机原生分辨率≤65nm套刻精度≤8nm原生直做65nm、45nm 成熟工艺加多重曝光（多次叠加刻蚀）可以向下兼容做到32nm → 28nm → 22nm → 14nm → 7nm