“光刻机没有一个国家可以做得到，美国都造不出，中国根本做不到！”“中国永远都造不出光刻机？”前年，中国物理学教授朱士尧在一次采访中直言：“美国都造不出，中国永远也造不出来！”甚至认为世界上没有一个国家能造出光刻机。   朱教授的这番话，在当时引发了轩然大波，不少人听了心里不是滋味，既有人认同他的观点，觉得光刻机技术太过复杂，连美国都难以独善其身，中国确实难有突破；也有人倍感憋屈，不服气中国就这样被轻易否定。   中国从来都是愈挫愈勇，越是被看轻，越要拿出实力证明自己。没人能想到，短短两年时间，中国光刻机就用实实在在的进展，打破了这份悲观的断言，这背后，是几代科研人默默无闻的坚守，更是一个国家不甘人后的倔强。   中国对光刻机的探索并不是从被封锁后才开始的，早在上世纪50年代，我们就已经迈出了第一步。1956年，半导体技术被列入国家重点发展规划，科研人员从零起步，一点点摸索光刻技术的门道。   1966年，中科院下属工厂和上海光学仪器厂协作，造出了我国第一台接触式光刻机，虽然精度不高，只能满足最基础的需求，但这却是中国光刻机从无到有的关键一步，意义非凡。   可发展的道路从不是一帆风顺的，上世纪90年代，受“造不如买”思潮的影响，加上西方国家签订《瓦森纳协议》，对我国半导体技术和光刻机出口实行限制，中国光刻机的研发陷入停滞，技术积累出现断层，和国际先进水平的差距越拉越大。   那时候，全球光刻机市场基本被荷兰ASML公司垄断，他们的高端光刻机一台能卖上亿美元，里面集成了上十万个精密部件，涉及光学、机械、材料等多个顶尖领域，我们只能眼睁睁看着，依赖进口才能满足国内芯片产业的需求。   真正的转折，来自外部的极限封锁。这些年，美国牵头联合荷兰、日本，不断加码对中国的技术围堵，禁止向我国出口先进光刻机，试图彻底扼住中国芯片产业的咽喉。   可越是被封锁，我们的斗志就越旺盛，国家迅速调整政策，加大研发投入，成立专项基金，上海微电子等企业扛起攻关大旗，联合高校、科研院所，开启了自主研发的艰难征程。   科研人员们顶住压力，日夜攻关，攻克了一个又一个技术难题。   哈工大的科研团队历经十余年努力，在极紫外光刻光源技术上取得突破，研发出的光源达到实用级别，为国产高端光刻机提供了核心支撑；上海微电子更是不负众望，2024年底推出28纳米浸没式光刻机，进入测试阶段，2025年成功交付首台设备，关键部件国产化率超过70%，能满足中端芯片的生产需求。   现在，我们不仅造出了光刻机，还在一步步追赶世界前列。   从最初的65型接触式光刻机，到如今的28纳米浸没式光刻机，从关键部件依赖进口，到国产化率逐步提升，每一步都走得异常艰难，却也异常坚定。   国家集成电路基金持续追加投资，企业间协同合作，科研人员不断探索新的技术路径，虽然目前我们和ASML的高端光刻机还有差距，但我们从未停下脚步。   中国从来没有“永远做不到”的事情，从两弹一星到高铁、北斗，从华为突破制裁推出新芯片，到国产光刻机逐步投用，我们用一次次突破证明，只要认准目标、坚持不懈，就没有跨不过的坎。   如今，中国光刻机的发展势头越来越好，后续我们还会在极紫外光刻机等高端领域持续攻关，不断提升技术水平，打破国外垄断。   这场追赶之路或许还很长，会遇到更多困难和挑战，但我们有底气、有决心，相信用不了多久，中国一定会造出更先进的光刻机，让中国芯片产业彻底摆脱被“卡脖子”的困境。