台积电和ASML太天真了，没有想到被美国玩弄于股掌之间还不自知！余承东怎么可能没有底牌，麒麟8000A和麒麟9020只是打头阵的！说句难听的话，就目前的形势还看不清楚吗！上代麒麟9000s发布的时候，你看市面上很少看到他的具体信息吧！再看今年华为直接把麒麟9020的配置参数测评跑分都拿出来了，很显然芯片我们已经搞定了！而且当余承东和何刚把mate70系列元器件全部自研说出来的时候，其实台积电和ASML肠子估计都悔青了！ 台积电刘德音说永远有竞争对手，华为不华为的其实没有关系！但是他忘记了，自从华为被美国制裁之后，几乎有点实力的公司都开始了自研发！现在是百花齐放啊！更不用说清华北大以及哈工大这些老牌科研名校了！所以当哈尔滨工业大学颁一等奖给赵天蓬教授研发的极紫外光光源的时候，全体沉默！ 可能很多人不知道这意味着什么，简单点来说吧！ASML不给国内提供EUV光刻机，就是美国怂恿的。同时ASML董事长兼CEO说，在先进技术方面国内落后10到15年！没有EUV光刻机国内造不出来5纳米到3纳米的芯片，可见EUV极紫外光技术的重要性。 首先这次哈工大研发出来的13.5纳米波长的极紫外刻光源和ASML的EUV光刻机是一样的，甚至技术要更先进采用了DPP工艺。其次是EUV比DUV的光源要短14倍以上，也就是说镜头精度要高很多。这里不得不提的是光刻机的原理和组成，首先光刻机四大部分组成，其中包括光源系统、物镜系统、双工件台、控制系统四大件。 而光刻机的工作原理就是在生产芯片的时候，会首先把电路图压印在晶圆上，然后让电路图像在晶圆上成像！这时候就要靠光，类似底片的原理，比如EUV光刻机就是透过紫外光把设计图缩小到芯片上，然后借助先进的量测系统和软件来检验这些图案，以提高芯片生产的精度与良率。这是一种二维成像技术。也就是说随着光源的提升，以及多重曝光，EUV光刻机实际上可以生产5纳米甚至3纳米芯片。 当然剩下的物镜系统，包括双工件台、控制系统都很重要。比如台积电现在使用的2纳米工艺，据悉就是来自于蔡司提供的物镜系统，其中包括六镜头的反射系统，其中光照明系统由大约25000 个零件组成，重达6 吨以上。六镜头投影光学元件有40000多个部件，重约12吨左右。 怎么说呢！实际上ASML和台积电的影响最大，我们自己能做出来了EUV极紫外光光源！那么EUV光刻机和芯片，我们都能自己制造了。相反你看美国的确不受一点影响，估计现在台积电和ASML都想要骂娘了！反正理想看待吧！本身的科技无国界，让美国弄成了实体清单。既然选择了制裁华为，那么必然知道会有反噬的一天！同时现在终于可以说一句，中国牛笔
