毕竟在几十年前，尼康可是光刻机领域说一不二的大佬，全球芯片厂都得排队求着买它的设备，怎么就突然走到巨亏的绝境，还被曾经的“小弟”ASML远远甩在身后？ 根据尼康官方发布的2025财年业绩预告，公司预计净亏损850亿日元，创下成立以来的历史最差纪录。 其中光刻机业务更是惨淡，过去半年仅出货9台，且全是技术陈旧的成熟制程机型，毫无高端竞争力。 反观ASML，同期狂销160台，其中高端EUV光刻机就有20余台，两者的差距已经大到无法追赶。 很多人不知道，尼康的光刻机底蕴其实极为深厚。 上世纪70年代，在日本经济产业省主导的“超LSI技术研究组合”项目中，尼康凭借投影镜头、超精密移动台和光电传感器三大核心技术，率先研发出日本国产第一台商用光刻机NSR-1010G，实现1微米的高分辨率，成为当时超LSI生产的核心设备。 2001年，尼康更是占据全球光刻机市场40%的份额，妥妥的行业霸主。 ASML能实现反超，核心是选对了技术路线，还懂得整合全球资源。 ASML的EUV光刻机采用13.5纳米波长的极紫外光，能实现更高精度的芯片制造，支撑7nm及以下先进制程，而尼康在关键的技术迭代中屡屡失误。 早年错失浸没式光刻技术先机，后来在EUV研发中坚持“全自研”，被排除在ASML主导的EUV联盟之外，核心光源技术被切断，耗资千亿日元仅造出无法商用的原型机，最终被迫终止EUV商业化开发。 中国在光刻机领域的突围，其实只是填补了自身成熟制程的市场空白，并非导致尼康衰落的主因。 尼康的溃败，本质是自身战略失误和封闭思维的结果，过度依赖单一客户，未能开拓台积电、三星等核心市场，又在技术路线上一错再错。 如今全球半导体格局重构，ASML垄断高端市场，中国稳步突破，曾经的霸主尼康，只能在夹缝中艰难求生，这背后的教训，值得所有科技企业深思。