中芯国际将首次在马来西亚公开展示2nm GAA(Gate-All-Around)晶体管原型晶圆,外媒称这是中国产业链首次公开2nm细节。
现场资料显示,该原型采用国产衬底与多层纳米片堆叠,沟道宽度仅6nm,对比3nm FinFET,等效性能提升18%、功耗下降34%。
在会前夜,ASML紧急回应市场传闻,确认“已获荷兰政府许可,可向特定中国客户出口0.55NA EUV光刻机用于2nm研发,但未透露数量与交付时间。
中芯国际将首次在马来西亚公开展示2nm GAA(Gate-All-Around)晶体管原型晶圆,外媒称这是中国产业链首次公开2nm细节。
现场资料显示,该原型采用国产衬底与多层纳米片堆叠,沟道宽度仅6nm,对比3nm FinFET,等效性能提升18%、功耗下降34%。
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悟道有代价
真的假的
东海碧泉 回复 08-10 04:08
要是真的,在国内应该轰动了。即使真的,在我们要突破EUV的前夜,卖给我们设备,本身也没有安什么好心
NKSHZ
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