真是杀人诛心啊！ 中微创始人、全球等离子体刻蚀技术权威专家尹志尧教授，在2024年度总结会上表示：自己在美国工作了40年，从来没有想到过我们能做到这么高的刻蚀精度。又透露：中微最新刻蚀机的准确度已经达到0.02纳米，每次加工一个原子都不差。这让美国硅谷的芯片巨头们坐不住了。 据了解，这一刻蚀精度已经远超国际同类设备，达到了世界最高水平。
尹志尧教授当年在美国泛林科技公司和应用材料公司等任职期间，已经把等离子体刻蚀机技术发展到了国际领先水平。2004年，年近花甲的他放弃在美国的所有荣誉与地位，回到祖国创办中微半导体设备有限公司。在中微，他带回三十多名在等离子体刻蚀技术领域同样享有盛誉的专家。经过20年的发展，中微刻蚀设备已经满足5纳米以下器件制造需求，并正在持续拓展3纳米、2纳米等更先进制程节点的技术储备。
现年80多岁的尹志尧教授仍然坚守在科研一线。他用毕生精力和智慧，为东方大国在集成电路产业链上游领域取得突破贡献着力量。
用户10xxx96
中国人民感谢伊教授
XJ
你确定是0.02纳米不是0.02微米？