大家都在说中国光刻机技术有突破，工信部宣布氟化氩光刻机做出来了，光源是193纳米，精度也有提升。虽然这不是最顶级的8nm光刻机，但已经算大进步，说明咱们终于能做光刻机了。简单说，这相当于20年前ASML的技术，虽然落后点，但能做28nm芯片，双重曝光做7nm，四重曝光能做5nm。对中国来说，真是个大突破。
这个消息出来后，大家反应不一样。一个是让大家放心，告诉大家我们能做光刻机，别担心。另一个是回应ASML的出口限制。9月6日ASML说要禁售光刻机，7日生效，结果我们这消息马上放出来，明显在告诉全世界：光刻机这事儿，咱们迟早能做。那些说中国科技不行的，应该闭嘴了。
现在ASML的光刻机在中国市场还占主导地位，毕竟它今年上半年从中国赚了340亿，占总收入49%。说明我们的光刻机还没完全量产，ASML的设备还是有竞争力。但没关系，进口的光刻机还能用上一两年，等我们量产了，ASML可能卖不动了。
更兴奋的是，上海微电子公布了EUV光刻机专利，这是顶级技术，预计两三年后能量产。到时候，美国的芯片封锁就没用了。虽然很多人觉得DUV和EUV差很多，但其实差别不大，光源不同，其他差不多。我们一直低调，公开的技术已经成熟了。那些更厉害的技术，基本都藏在实验室，科研人员一步步改进，量产会很快。
看看华为，虽然不宣传5G或几纳米芯片的突破，但效果已经很明显。上海微电子本来要上市，后来撤了，大家知道原因，和华为差不多。按现在的速度，四年内EUV和DUV光刻机搞定，到时候西方只能看着我们越来越强，芯片价格降得很低，芯片成白菜价指日可待。
大家怎么看中国在光刻机技术上的突破？你觉得我们离量产最先进的芯片还差多远？欢迎在评论区分享你们的看法！
Zzzzz毒舌
沿海发达工业 离台湾太近了！