日本近期对中国的光刻胶断供行为引发了广泛关注。据报道，日本不仅停止了对中国的光刻
光刻胶是芯片生产的关键材料，日本在全球光刻胶市场中占据约75%的份额，这一断供行为对中国半导体产业构成了严峻挑战。不过，中国在光刻胶领域的自主研发已经取得了显著进展。武汉太紫微光电研发的T150光刻胶分辨率达到120纳米...
日本光刻胶禁令1月31日生效，武汉太紫微电光实验室当天宣布T150光刻胶量产验证
日本光刻胶禁令1月31日生效，武汉太紫微电光实验室当天宣布T150光刻胶量产验证通过。一个东方大国在半导体领域又迈出了一大步。太紫微电光实验室成立于2024年5月，在不到5个月的时间里，凭借自己的力量攻克光刻胶这一“卡脖子...