今日看盘台积电2nm工艺突然泄密
近日,半导体行业巨头台积电遭遇重大危机,其最为先进的2nm工艺技术出现泄密事件,在全球半导体领域掀起惊涛骇浪。
台积电在例行监控中敏锐察觉到未经授权的异常活动,疑似与2nm芯片技术紧密相关。随即,公司迅速展开全面内部调查,结果令人震惊:有9人涉案其中。3名负责2nm试产的人员,竟利用手机拍摄大量关键资料,外流至东京电子(TEL)员工手中,目前已被直接开除;另外6名来自研发中心的人员,因向他人提供2nm相关资料,也被调离原岗位。
2nm工艺堪称半导体皇冠上的明珠,采用全环绕栅极(GAA)纳米片晶体管技术,相比上一代3nm工艺,晶体管密度提升15% ,相同电压下性能提升15%,同等性能下功耗降低24%-35% ,SRAM密度达到38Mb/mm²,导线电阻降低20% ,还配备超高性能MiM电容。研发这一工艺,需要在极紫外光刻(EUV)、刻蚀、材料科学等多个关键领域实现同步突破,技术门槛极高,目前全球仅有台积电、三星、英特尔与Rapidus等极少数企业仍在持续投入研发。
此次泄密事件发生在2nm量产前夕,影响不容小觑。有半导体业者分析,若涉案者具备研发背景,且掌握2纳米合格率调校的关键参数与制程条件,极有可能大幅缩短竞争对手的追赶时间,尤其对正在全力发展2纳米技术的厂商而言,或许会成为重大突破口。供应链消息显示,外泄资料流向了一名曾就职于台积电系统整合部门、现任职于日系设备公司的工程师,由于该日系外商是台积电重要的设备供应商之一,此事已引发其总部高度关注,高层与法务人员紧急进驻台湾,与台积电法务单位全面清查资料来源、目的与影响范围 。
台积电一直对任何破坏商业机密保护或损害公司利益的行为秉持零容忍态度,此次已对涉事违规人员进行严厉惩处,并采取相关法律行动。但此次泄密事件已然引发行业对芯片制造技术保护的高度关注,凸显企业在研发过程中强化保密措施的重要性。目前,案件仍在进一步侦办中,台积电2nm工艺泄密事件后续究竟会如何发展,全球半导体行业格局是否会因此改写,都成为大众密切关注的焦点 。