国产DUV水到渠成 2024年9月9日，工信部官宣国产氟化氩光刻机，光源193纳米，分辨率≤65nm，套刻≤8nm。 2025年，上海微电子的90纳米工艺光刻机订单已超过50台。国产28纳米光刻机也将在实现90%零部件自主可控基础上量产。 2014年8月，长春国科精密成立。 2016年，国科精密研制成功我国首套NA0.75 90nm节点ArF光刻机投影物镜。 2020年，研制成功了我国首套NA0.82 110nm节点KrF投影物镜。 2021年，北京国望光学全资收购国科精密。 2022年3月，北京国望光学光刻曝光系统研发及批量生产基地项目，随着中标企业的公示，国产芯片制造前道工序的投影光刻机曝光光学系统产品，正式进入批量生产阶段。 2023年9月11日，长春国科精密增资36倍，意味着该工厂会承担更多科研任务。 2018年3月，科益虹源首台高能准分子激光器顺利通过出厂验收。现已完成了6kHZ、60w浸没光刻光源的制造，激光器上的KBF晶体由中科院旗下的福晶科技提供。 2020年，微电子所完成28nm浸没光刻机曝光光源10mJ@4KHz工程样机交付整机使用及15mJ@6KHz原理样机研制。
