一觉醒来，风向变了！不仅台积电慌了，就连美国和ASML也坐不住！西方和欧美国家集体破防，本以为哈工大研发出来13.5纳米波长的极紫外已经是王炸，但是谁能想到只是烟雾弹。
因为说白了光刻机的工作原理复杂，当初ASML的董事长兼CEO就说过，即便是给我们图纸，我们也做不出来。里面包含10万个元器件，原以为这些是吹牛。但是当台积电2纳米光刻机的物镜系统曝光之后，才知道一切是真的。其中包含光源，光学和物镜头系统，双攻台，控制系统。其中光源部分则的作用是让电路图像在晶圆上成像，这时候就要靠光，类似底片的原理，透过紫外光把设计图缩小到芯片上，然后借助先进的量测系统和软件来检验这些图案，以提高芯片生产的精度与良率。这是一种二维成像技术。
第二就是光学和物镜系统，比如台积电2纳米EUV光刻机的光学系统主要包含两部分，来自于德国蔡司提供。一部分是六镜头的反射系统，一部分是照明系统。照明系统由大约25000个部件组成，重达6吨以上。六镜头投影光学元件有40000 多个部件，重约12吨。其实包含7纳米和EUV光刻机，光学物镜系统工作原理元器件相差不大，但是其中工艺才是难点。
但是美国和台积电做梦也没有想到吧！上海微电子同样传来好消息，因为他是国内自研光刻机的企业，本来只能做DUV光刻机，同时只有具备 90nm 及以下的芯片制造能力，同时在光源、光学系统、精密机械等多个关键技术环节取得了显著突破，其照明波长为 193 纳米，分辨率达 65 纳米，套刻精度为 8 纳米，已达到国际同类产品的较高水平。但是现在又把28nm芯片研发能力做出来了，你这才是最尴尬的地方
说得直白点也许13.5纳米波长的极紫外刻光源你觉得好像也没有什么，毕竟这只是EUV光刻机的一部分。但是实际上作为老牌企业的上海微电子装备公司，对于光刻机的研发也是不容小觑的。虽然他们只能做28纳米。不过起码有经验吧！
也许一年两年做不出来，但是三年和十年时间呢！现在美国进一步加深了制裁的范围和力度，同时台积电，ASML都和美国穿一条裤子了。说白了看着好像很多条条框框，实际上就是想要为我们准备的。但是显然他们失算了，就像华为一样。制裁之前美国估计也没有想到在5年后，华为会重新回归，同时2024年最新手机销量数据显示，国内手机销量中，华为已经超过了苹果取得第二的成绩。
怎么说呢！每个人对于同样的事情也许有不同的看法，同时衡量的规则也有不同。你喜欢高性能的手机自然可以选择骁龙8至尊的手机，这是只有。但是不能否认华为的复出，哈工大的实力，以及上海微电子和众多国内企业的努力吧！华为加油，中国科技加油
