在智能手机设计领域,苹果公司一直以其创新性和前沿技术引领着行业潮流。近日,苹果公司再次传来喜讯,成功获得了一项关于屏下Face ID的专利,这一突破性进展不仅解决了屏下摄像头的技术难题,更为未来智能手机的设计开辟了新的道路。这一消息一经传出,便迅速引发了科技界和广大消费者的广泛关注与热议。 据悉,屏下Face ID技术的核心难题在于提高红外光的透光率。苹果的新专利通过巧妙的子像素排列设计,让红外光得以穿透OLED面板,实现了屏下人脸识别的功能。这一创新方案不仅保持了屏幕显示的完整性,还确保了人脸识别的速度和准确性,为用户带来了更加便捷、安全的解锁体验。
苹果新专利:屏下FaceID技术突破,引领智能手机设计新潮流
祥子侃军事
2025-01-16 17:41:12
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