大消息!美国老搞科技限制,咱却逆势突破。哈工大在EUV光刻技术上大放异彩,成功做出13.5纳米极紫外光 。
过去,国外凭专利把这技术捂得严严实实,对咱严防死守。但哈工大团队超给力,直接绕开西方专利,开辟出自己的路。
这技术稳定性强、亮度高,是芯片制造的关键。有了它,国产光刻机研发有了底气。此前我国芯片制造被高端光刻机“卡脖子”,如今有望打破国外垄断,实现高端芯片自主制造。期待这成果早日应用,助力我国半导体产业腾飞 。
大消息!美国老搞科技限制,咱却逆势突破。哈工大在EUV光刻技术上大放异彩,成功做出13.5纳米极紫外光 。
过去,国外凭专利把这技术捂得严严实实,对咱严防死守。但哈工大团队超给力,直接绕开西方专利,开辟出自己的路。
这技术稳定性强、亮度高,是芯片制造的关键。有了它,国产光刻机研发有了底气。此前我国芯片制造被高端光刻机“卡脖子”,如今有望打破国外垄断,实现高端芯片自主制造。期待这成果早日应用,助力我国半导体产业腾飞 。
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