俄罗斯最近宣布，他们要搞自己研发的EUV光刻机，目标就是比ASML的设备便宜又容易制造。EUV光刻机是做芯片的关键设备，现在全世界只有ASML能生产，价格贵得吓人，很多芯片厂商根本买不起。所以俄罗斯这次想通过自己的技术突破，让光刻机变得更便宜，能满足一些小规模生产的需求。 他们的新设备会用11.2纳米的激光光源，比现有的技术分辨率提高了20%。简单点说，就是这东西能更精确地把电路刻到芯片上，芯片性能自然也能提升。但问题是，新设备和现有的光刻机不兼容，这就意味着俄罗斯得重新搞一个独立的系统，还得升级设计芯片的软件工具（EDA工具），这些都得花钱和时间去解决。 俄罗斯的研发分三步走：先是搞基础研究，接着制造一个200mm的晶圆原型，最后才是做300mm晶圆的大规模系统。虽然他们的产量预计只有ASML的37%，但如果能成功，至少能满足小规模的芯片生产需求，比如定制芯片或某些特殊行业用的芯片。 我觉得，虽然俄罗斯的计划有很多挑战，但如果能做出来，还是会对芯片行业造成一定的影响。尤其对一些小厂商或者国家来说，便宜又实用的光刻机能让他们降低成本，增加自主生产的机会。虽然不能替代ASML的主导地位，但至少为市场提供了一个新的选择。这对全球技术竞争和独立性来说，是个不错的机会。 各位有什么看法，欢迎在评论区讨论！评论打卡任务
