去年8月下旬，在美国商务部长雷蒙多访华期间，华为突然发布Mate60。据行内专家拆机检测，它使用了7纳米（7nm)先进制程。一时间，网上都是雷蒙多代言Mate60的“梗”。 但荷兰光刻机巨头阿斯麦并没有向中国出售这种先进制程的光刻机，那华为是怎么实现的呢？ 工信部最新的消息给出了答案。 北京9月15日电，工业和信息化部近日印发《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》(以下简称《指导目录》)，其中“亮点”在电子专用装备目录下，“集成电路生产装备”包括氟化氩光刻机，光源193纳米，分辨率≤65nm，套刻≤8nm。 从相关的技术资料可以发现，现在的光刻机分为紫外光刻机（UV）、深紫外光刻机（DUV）和极紫外光刻机（EUV），后者使用极紫外光，具有极高的分辨率，适用于7纳米（7nm)及以下制程的芯片制造。 我国此次突破的 DUV 光刻机波长为 193nm，意味着实现了28nm的成熟工艺取得突破。虽与最先进的 3nm 芯片所需的 13.5nm 极紫外（EUV）光刻机有差距，但已很了不起。 简单分析，可能有两点： 一是华为手机的7纳米制程就是这种设备生产的。因为分辨率≤65nm，套刻≤8nm，是说通过上下两层之间套刻，可以实现≤8nm的分辨率，但是每一层还是≤65nm。 二是可能已经有更先进的光刻机已通过设计、实验并小范围应用中。根据中国的习惯做法，都是“设计一代、试用一代、公布一代”。这次工信部发布的“推广应用指导目录”意味着该产品已完全成熟，可以大规模应用，那么也意味着更先进的光刻机已经在路上。 实现28nm制程，可以说是我国实现了从0到1的飞跃，那么从1到2（14nm)，再到3甚至4（如7nm、5nm、2nm），值得期待啊！
