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台积电21年元老携核心技术跳槽英特尔?2纳米壁垒或被突破

半导体行业正经历一场前所未有的技术信任危机。当台积电21年技术核心罗唯仁带着1500多项专利相关的隐性知识投奔英特尔时,

半导体行业正经历一场前所未有的技术信任危机。当台积电21年技术核心罗唯仁带着1500多项专利相关的隐性知识投奔英特尔时,我们不得不重新思考:在全球化与技术民族主义交织的今天,企业真正的技术壁垒究竟是什么?

罗唯仁在台积电的地位远超普通高管

作为创始人张忠谋亲自从美国请回的技术专家,他是"夜鹰计划"突破10纳米技术瓶颈的核心人物,台积电半数以上专利都有他的参与痕迹。

这位本该成为台积电技术传奇的人,在退休前做出惊人举动:全面收集GAA晶体管技术、背面供电方案、材料配方、良率数据等核心资料,还坚持要纸质版

拿到这些资料后,他立刻出发去美国俄勒冈州,还完全断绝了和台积电的所有联系

这可不是平常的人才流动,反倒乃是半导体行业最关键技术资产的转移。2纳米工艺是台积电未来5至10年的战略根基,它的价值不仅体现在公开的技术参数里,还暗藏在未获专利保护的隐性知识内。

据行业专家分析,从良率50%提升到90%的过程中积累的调试经验、特定批次原材料的特性掌握、设备参数的微调技巧等,这些无法通过专利完全保护的实践智慧,正是罗唯仁21年职业生涯积累的真正价值。

彭博社根据半导体行业分析师的看法指出,如果英特尔能够掌握这些隐性技术,有望将2纳米制程的研发时间至少缩短两年。

事件发展呢,更耐人寻味的是,双方的反应。英特尔首席执行官陈立武,公开表示,“欢迎罗唯仁加入”;这个时候呢,强调,“没发现啥异常情况”。与此形成对照的是,台积电呢,延迟四个月才提起诉讼,还面临着跨国取证困难的现实挑战。台湾检方呢,没法对在美国的罗唯仁采取有效法律行动,就算最终胜诉,也难执行判决。

这一事件折射出全球半导体产业的深层矛盾

美国商务部数据显示,2023年,美国半导体产业投资增了35%,其中相当一部分,用于吸纳国际顶尖人才及技术。

结合此前美国要求台积电十年内不得在大陆扩大生产,并强制获取其良率和定价数据的行为,罗唯仁事件似乎成为美国系统性获取半导体技术战略的一环。

特朗普政府时期,对半导体产业加征百分百关税、迫使台积电赴美建厂的政策,和当下的技术人才争夺,呈现出政策上的延续性。

目前行业消息显示,英特尔已在俄勒冈州实验室应用相关技术资料进行实验,而台积电只能眼睁睁看着自己数十年积累的技术成果成为竞争对手的利器。这一事件彻底暴露了半导体行业的"技术遮羞布":再高的技术门槛,也难以抵御核心人员的背叛;再严密的知识产权保护,也挡不住隐性知识的流失。

台积电当下面临的挑战,可不单单是法律诉讼;怎样重建技术信任体系,怎样在守护核心技术和激发创新中找平衡,怎样构建真正难复制的技术壁垒,这些问题,比只起诉一个离职高管更要紧。半导体行业正渐渐意识到,最得防备的,并非外部竞争,而是内部信任的崩塌;未来的技术竞争,也许会从实验室转到企业信任文化的营造。