众力资讯网

一图看懂光刻胶驻波,为什么让线宽周期摆动 为什么光刻胶厚度只变了一点,线宽却忽大

一图看懂光刻胶驻波,为什么让线宽周期摆动
为什么光刻胶厚度只变了一点,线宽却忽大忽小,而且还呈周期变化?

根因不是胶厚直接决定线宽,而是胶层构成了一个薄膜干涉系统。曝光光进入光刻胶后,一部分到达基底并反射回来;入射光和反射光叠加,在胶深方向形成明暗相间的驻波。

驻波会让不同深度的光化学反应程度不同。显影后,轻则出现侧壁波纹,重则形成底部残胶、缩颈或反入射轮廓。

更关键的是:当胶厚改变时,光在胶内的往返相位也随之改变。某些厚度增强光耦合,某些厚度削弱光耦合,于是固定曝光剂量下的有效曝光量周期变化,CD便沿着“摆幅曲线”忽大忽小。
芯片 半导体 半导体工艺 半导体入门