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国产光刻机模型亮相:核心概念股梳理 一、整机/股权映射 1. 张江高科:全资子公司张江浩成持有上海微电子股权,A股整机影子属性较强。 2. 上海电气:上海微电子隶属上海电气集团,存在间接参股与制造配套逻辑。 二、核心零部件 1. 茂莱光学:光刻机光学系统核心供应商,提供投影物镜、匀光与中继照明 ​

国产光刻机模型亮相:核心概念股梳理

一、整机/股权映射1. 张江高科:全资子公司张江浩成持有上海微电子股权,A股整机影子属性较强。2. 上海电气:上海微电子隶属上海电气集团,存在间接参股与制造配套逻辑。

二、核心零部件1. 茂莱光学:光刻机光学系统核心供应商,提供投影物镜、匀光与中继照明模块等。2. 富创精密:半导体精密金属结构件供应商,产品应用于光刻机、涂胶显影设备,并进入ASML供应链。3. 炬光科技:光场匀化器等激光光学元器件供应商,用于光刻机曝光系统。4. 新莱应材:高纯真空管路、气体阀门供应商,可用于光刻机真空与气体传输系统。5. 江丰电子:靶材龙头,同时布局光刻机核心冷却部件。6. 芯碁微装:激光直写光刻设备方向,主要面向掩模版、封装、面板等细分场景。7. 蓝英装备:子公司为ASML EUV光学系统提供关键部件清洗设备。8. 福晶科技:非线性激光晶体龙头,产品可用于光刻光源系统。9. 美埃科技:为上海微电子28纳米光刻设备提供机台内洁净环境相关产品。10. 海立股份:配套光刻机冷却系统,与上海微电子有合作。

三、配套材料与耗材1. 中船特气、华特气体:电子特气,用于光刻及相关工艺环节。2. 彤程新材、南大光电、上海新阳:光刻胶方向,覆盖KrF、ArF等路线。3. 路维光电、清溢光电:掩膜版,光刻工艺图形转移的关键耗材。

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