在第九届进博会上，上海微电子携自主研发的新一代前道干式扫描投影光刻机模型亮相，直观展现了我国前道光刻装备自主化的阶段性重大成果。 一、亮相情况与模型设计- 展会亮相：11月5日至10日，上海微电子装备