“光刻机没有哪个国家可以做得到，美国都造不出，中国根本做不到！”“中国永远都造不出光刻机？”中国物理学教授朱士尧曾在一次采访中直言：“美国都造不出，中国永远也造不出来！”甚至认为世界上没有一个国家能造出光刻机。

光刻机领域有个容易被忽略的事实：美国不能独立制造整套顶尖EUV设备，不代表美国缺少核心技术，更不意味着中国连普通光刻机都造不出来。
目前，荷兰ASML在先进EUV光刻设备领域占据关键地位。它的优势来自长期建立的国际产业网络，德国蔡司提供核心光学技术，美国企业参与光源等重要环节。即使掌握整机设计，也未必能迅速复制背后的加工工艺和供应体系。
中国面临的困难确实不小，但问题并非有没有制造能力，而是能否把复杂技术转化为稳定可靠的量产设备。

2019年，工信部发布的相关装备推广目录，已将193纳米扫描式光刻机列入其中。2024年新版目录公示稿又提出分辨率65纳米的氟化氩光刻机技术指标。
需要分清，目录列出技术要求，并不等于相关设备已经大规模应用，更不能拿成熟制程的进展直接证明先进EUV技术已经突破。
真正决定产业竞争力的，还有光刻胶、精密运动平台、光学材料以及设备长期运行的稳定性。任何一项存在短板，都可能影响整条生产线。
2025年，ASML研发投入约47亿欧元，销售48台EUV光刻系统。这样的投入和交付规模说明，领先企业没有停下脚步，中国的追赶也不能只盯着某个固定指标。

我认为，光刻机竞争最深层的问题，是谁能掌握产业发展的主动权。美国能够通过出口管制限制部分设备和技术流通，却不能据此认定其他国家永远无法建立替代方案。限制越严，受影响企业寻求自主供应的动力就可能越强。
但中国也不能把技术突破当成单纯的资金竞赛。高端制造需要长期试错，更需要科研机构、设备企业和芯片厂商共同解决实际问题。与其追求一夜之间赶超，不如把每个关键环节做扎实，让国产设备真正进入生产体系。

眼下做不到，与永远做不到，根本不是一回事。真正有价值的回答，不是争辩谁曾断言中国失败，而是不断拿出经得起验证的技术成果。中国光刻机的发展前景，最终要由持续创新和工业实践决定，而不是由一句悲观预言决定。