这期批注日本东京电子(TEL)的专利:特許第7360973号,日文原文在图里(图5-6),图2-4先用官方沿革讲这家公司的来路。
先把账摆清楚:光刻不是只有光刻机。一片晶圆进光刻机之前要涂光刻胶,曝光之后要显影——这两道工序的机器(涂胶显影设备),全球九成出自东京电子一家:2025年公司口径91%,配套EUV光刻机的部分,基本全是它的。
三个发现(含判断):
① 专利自己把光刻拆成了三步。特許第7360973号说明书原文写着:レジスト塗布処理(涂胶)、露光処理(曝光)、現像処理(显影)。这台机器守的,正是光刻机的后半场。
② 专利里最值钱的是两根管子。显影液供给部分成两根:一根比晶圆直径短,一根比直径长,配合两道独立升降的环形挡液壁——整篇专利只解决一个问题:让两根管子共用一套挡液结构。专利保护的,全是这种毫米级的"倒液细节"。
③ 这家公司1963年靠卖美国设备起家,1982年开始自研涂胶显影机,1991年官方沿革写下"销售额世界排名连续三年第一"。别人做曝光,它把曝光的"前后场"全包了。
我的观点:大家盯着曝光机,但光刻的每一环都站着一个"日本某家"——涂胶显影是TEL,光罩是HOYA,光刻胶是信越和TOK。国产光刻要过的不是一道关,是一串关;难,但账是清楚的。#光刻机 #日本 #半导体 #芯片 #涂胶显影 #硬核科技