余承东称国内正研发EUV光刻机，这还是前段余总接受采访时候提到的。

先说这东西为什么这么重要。现在最先进的芯片靠的是DUV多重曝光，一次不够就多曝几次，但每多曝一次成本和良率都是指数级下降。EUV是真正的一步到位，13.5纳米波长直接一次成像，2nm、1nm全靠它。台积电三星的先进制程全建立在ASML的EUV之上。

华为逻辑折叠芯片本质上是在没有EUV的条件下用架构创新突围，但如果有了EUV呢？同样这套架构配上真正的先进制程，性能天花板直接抬一个量级。所以余总说这话更像是告诉大家国产半导体的路线图不止一条腿走路。

而且从产业节奏看，这几年国内在光源、物镜、双工件台这些核心子系统上都有进展，不是一家在搞，是一整条产业链在动。

说到底这事的意义不在于华为一家，是中国半导体能不能真正摆脱被卡脖子的宿命。