这期批注日本レーザーテック(Lasertec)的专利:特許第4590521号,日文原文在图里(图5-6),图2-4先用官方沿革讲这家公司的来路。
先把位置讲清楚:光刻机把电路图刻到晶圆上,靠的是一块"底片"——光罩。光罩上只要有一个纳米级缺陷,整批晶圆全部报废。而"光罩合不合格"这件事,全球只有一家公司能检查:日本的レーザーテック,用和曝光一样的13.5nm EUV光查EUV光罩,这项技术至今只有它一家量产商用,Intel、台积电、三星都是它的客户(半导体检查装置整体份额九成以上)。
三个发现(含判断):
① 专利里写的是"两只眼睛"。特許第4590521号:一束光穿过光罩(透射光),一束光从表面反射(反射光),两路光同时看——透明的缺陷靠透射光,反光的缺陷靠反射光。
② 两个画面要先"配平"。专利给透射光路加了一片透过率渐变的部分透射片,把两个区域的亮度调平;检测器还能在"多帧积分"和"单帧快拍"之间切换——高速和高灵敏,专利里写的是"两个都要"。
③ 这家公司1960年给松下做医用X光摄像设备的协办厂起家,1975年进入半导体第二年就做出世界首台光罩检查机,2017年世界首台EUV光罩基板检查机,2019年世界首台EUV图案光罩检查机——每一步,官方沿革都写着"世界初"。
我的观点:光刻这条链,大家盯光刻机,但光刻机前面还有光罩,光罩前面还有"检查光罩的机器"——日本在这条链上的每一个窄口都站了一个人。窄,但没人绕得开。#光刻机 #日本 #EUV #半导体 #芯片 #光罩 #硬核科技