蔡司高管称中国EUV光刻机研发需15年

9月3日，德国蔡司半导体部门负责人Frank Rohmund表示，中国在尖端芯片制造设备的研发方面落后约15年，并认为中国需要15年才能研发出极紫外（EUV）光刻机是“合理的假设”。Frank Rohmund指出，中国的进步很难量化，北京方面数十年来一直在研发这类技术。对于近期有关中国取得技术进展的报道，他表示并不令人意外，现在需要观察的是这些设备的实际能力究竟如何。他补充称：“我们仍然遥遥领先”。