以下是瑞银报告原文：

假设不出现新管制的基准情景下，ASML中国市场表现显著好于市场担忧

1、历史：近年ASML中国区营收如何变化？

2025年，中国市场贡献了ASML 33%的产品销售额，而2020年之前这一占比仅约10%；2019—2025年预期区间内，ASML中国区营收复合年增长率约40%。如此高速的扩张，也自然引发了市场对其可持续性的担忧。

2、 现状：今年中国区营收预期如何？

我们预计，2026年ASML中国区营收将同比下滑11%，2027年预期重回增长、同比提升25%。

但与此同时，受先进逻辑芯片、存储芯片扩产驱动，中国晶圆厂设备支出（WFE）2026年预计同比增长9%，2027 年预计同比增长29%。对应地，中国市场的光刻强度（光刻设备支出占晶圆厂总支出的比例）将在2026—2027 年回落至15%–20%；作为对比，2019年该比例为17%，2020—2025年区间为 20%–25%。

3、未来：中国光刻技术何时能追平？

我们的基准情景判断维持不变：未来10 年内中国无法造出可商用的EUV光刻机；从专利维度分析，当前中国EUV 技术所处的阶段，大致与ASML在 2004 年的水平相当。

我们认为，上海微电子（SMEE）与宇量昇科技（Yuliangsheng）是中国DUV光刻方案最先进的两家厂商，尤其值得关注。

在DUV赛道，我们预计中国还需要2–5年才能具备市场竞争力，尤其是浸润式DUV领域；但受良率、产能吞吐量的差距影响，中国市场仍会继续采购ASML的设备。

对ASML而言，悲观情景的核心风险来自针对DUV设备的对华出口新限制。我们预计，2027年中国市场仍将贡献 ASML集团总销售额的15%–20%。 瑞银称中国十年内造不出EUV光刻机，目前仅相当于ASML 2004年水平