长鑫计划到 2026 年每月新增 5 万至 6 万片晶圆的产能，相应的设备采购支出约为 350 亿至 430 亿元人民币。

长存的三期项目已进入设备安装调试阶段，预计将于 2026 年下半年开始大规模量产，相关设备采购额约为 200 亿元人民币。

清洗设备的国产化率已达到 50%至 60%，蚀刻设备的国产化率达到 55%至 65%。化学机械抛光（CMP）和热处理的国产化率在 30%至 40%之间。但是在高阻隔领域，本地化率仍然很低：物理气相沉积（PVD）为 10%至 20%，化学气相沉积/原子层沉积（CVD/ALD）和涂层显影系统均为 5%至 10%，计量和检测仅为 1%至 10%，光刻设备仅为 0%至 1%。