韬定律是不是就意味着我们就不需要光刻机了呢？
显然不是！
华为让我们不需要用EUV去极致的压缩2纳米以下的晶体管制造就可以获得同等效率的芯片，既然华为已经推出384款韬定律芯片并且已经量产六年，那么五年后的今天放言五年后达到1.4那么效率的芯片，我觉得“五年时间”都是保守的。
因此，我们还是需要光刻机的，但当我们也缩小晶体管体积时用什么光刻机，谁知道呢？
华为还有一句没有说但专业人士都应该明白的事情，那就是用于“晶圆设计”的EDA。
EDA就像一支画笔，笔尖越细，同一面积里画出的线条就越多。不同纳米芯片制程就需要不同精度的EDA，而EDA可是美国最早打压华为的工具。
但华为连EDA都突破了，至于现在突破到哪一阶段，谁知道呢？