当大家都在关注中国光刻机如何突破ASML封锁时，没人想到，最先撑不住的会是曾经的行业巨头尼康，这份惨淡的业绩，不仅是一家企业的危机，更标志着日本光刻机时代的落幕。 尼康的巨亏并非偶然，翻看其官方历史就能发现，这家百年光学企业曾拥有无可撼动的优势。 1988年，尼康推出世界首台镜头扫描式KrF准分子光刻机NSR-1505EX，支持0.25微米及以下设计规则，引领了当时的技术潮流。 到1989年，尼康半导体光刻设备的销量就突破2000台，全球各大芯片厂商都以使用尼康设备为荣。 ASML的崛起，离不开对技术趋势的精准判断和全球资源的整合。 EUV光刻机作为高端芯片制造的核心设备，需要镜头、光源、软件等多领域的顶尖技术协同，ASML没有闭门造车，而是组建了EUV联盟，整合德国蔡司的镜头、美国Cymer的光源，还联合英特尔、三星、台积电等大客户注资，形成了完善的技术和生态壁垒。 尼康则陷入了“加拉帕戈斯化”的困境，过度追求内部技术的完美，忽视了行业发展的趋势。 拒绝台积电提出的浸没式光刻方案，错失了技术迭代的关键窗口；坚持“全日本产”的自研路线，无法获取全球顶尖的核心技术，导致EUV研发失败。 加上日本紧跟美国加码半导体出口管制，尼康失去了中国这个庞大的市场，订单缺口无法填补，业绩一落千丈。 中国光刻机的发展，是基于自身需求的自主突破，上海微电子的28nm DUV光刻机逐步实现量产，填补了国内成熟制程的空白，这并不是挤压尼康的生存空间，而是尼康自身早已丢失了竞争力。 如今尼康巨亏850亿日元，股价大跌，关闭老旧工厂，曾经的光刻机霸主，终究没能跟上时代的步伐，留给行业无尽的思考。