关于中国何时能完全自主生产光刻机，这事儿还真不好说。有消息称2025年12月上海芯上微装交付的AST6200步进光刻机，零部件国产化率达83%，面向350纳米工艺，满足了碳化硅、氮化镓这类第三代功率半导体的实际需要。 不过国际上普遍认为中国在EUV光刻机方面和荷兰ASML有8到10年差距。中科大教授朱士尧也说光刻机不是单干能搞定的，美国都做不到全链条自产。但咱也别灰心，从两弹一星到高铁、北斗卫星，咱啥难题没攻克过？我相信只要坚持投入研发，完全自主生产光刻机也只是时间问题。