只差光刻技术,日媒:中国将成日荷后,第三个造光刻机的国家! 11月末,当俄罗斯“萨尔马特”导弹再次化作火球坠向大地时,日本《日经亚洲》刊发了一篇意味深长的分析文章,字里行间透露出东京对另一个领域的深切忧虑,光刻机技术优势正被中国逐步蚕食。 麻烦各位读者点一下右上角的“关注”,留下您的精彩评论与大家一同探讨,感谢您的强烈支持! “美西方对中国的极限打压,反而逼着中国加快自主创新。” 历史总是惊人地相似,当一个国家在某个领域遭遇全面封锁时,往往会迸发出超乎想象的反击力量。 2018年,美国政府开始向荷兰施压,阻止阿斯麦向中国出售最先进的EUV光刻机。 这一举动本意是遏制中国半导体产业发展,结果却催生了中国历史上最大规模的芯片设备国产化运动。 一年后,中芯国际被列入美国实体清单;2023年,日本宣布限制23种半导体关键设备出口。面对三重封锁,中国的反应是加大采购力度。 2023年中国进口芯片设备金额暴涨93%,达到634亿元人民币,这种“囤货式采购”为中国本土产业链争取了宝贵时间。 上海微电子、华为等企业开始在测量、沉积、化学抛光、蚀刻、封装等环节逐个突破。这些公司不仅享受中国的产业政策支持,更主动引导供应链优先采用国产设备 全球光刻机市场长期被三家公司垄断:荷兰的阿斯麦、日本的尼康和佳能。其中阿斯麦掌握着最先进的EUV技术,其LPP激光等离子技术路线已形成高耸的专利墙。 中国选择了一条不同的技术路线,LDP激光放电等离子技术。 虽然设计更简单、成本更低,但初期在功率和产能上确实落后。2025年7月,中国首台国产EUV原型机Hyperion-1亮相,采用钇纤维激光,功率50瓦,反射镜反射率65%,可小批量生产5到3纳米芯片。 产能差距依然明显:Hyperion-1每小时只能处理10片晶圆,而阿斯麦的设备可达150片。 “但这只是起点。”国内半导体行业分析师指出,“中国选择这条技术路线并非因为技术更先进,而是因为它绕过了西方公司的专利封锁,给了我们独立发展的空间。” 中国在光刻机领域的追赶并非孤立事件,而是整个半导体产业链突围的一部分。 预计2025年中国电子特气市场将接近300亿元规模,年增长10%。金宏气体、南大光电等中国企业已进入台积电供应链,尽管最顶级的光刻气仍需进口。 早在1977年,苏州就召开过全国光刻技术会议,67位专家共商追赶世界先进水平。那时中国在该领域并不落后,只是后来因各种原因逐渐掉队。 中国正在重新找回自己的位置。2024年,阿斯麦对华销售额达89.2亿欧元,占其总收入的41%,但预计2025年将骤降至20%。 这一数据变化背后,是中国“国家大基金三期”的启动和各地对本土供应链的全力支持。 日本媒体的担忧并非空穴来风。如果中国能够实现光刻机完全国产化,全球市场格局将发生根本性改变。 目前,荷兰阿斯麦垄断高端市场,日本尼康和佳能则专注于中低端领域,特别是在中国市场占有重要份额。 中国的突破将首先冲击日本企业的中低端市场,继而向高端领域延伸。 “最糟糕的情况是中国不仅能自给自足,还能出口光刻设备。”这一前景让西方企业不寒而栗。 今年荷兰外交大臣访华时,中方提议放松技术管制,强调中荷合作可以实现双赢。但美国持续推动技术限制,反而加速了中国国产替代的进程。 中国在光刻机领域的突破,根植于其独特的产业生态系统。拥有14亿人口的统一大市场,为企业提供了无与伦比的试错空间和创新土壤。 网上流传的段子生动反映了这一现实:鱼竿厂能造航母缆绳,快递公司能搞重型无人机。这些看似夸张的说法背后,是中国产业链条异常灵活的现实。 开源AI模型DeepSeek的成功、歼-10C雷达在实战中的优异表现,都印证了中国工业基础正在发生质变。 日本媒体也不得不承认,中国工程师的勤奋与智慧是攻克技术难关的关键因素。在他们看来,中国完全掌握光刻机技术“只是时间问题”。 中国方面表现得相当低调,既防止技术泄露,也避免过度刺激美国。毕竟,华盛顿最担心的是中国突然停止进口,实现完全自给自足。 距离苏州那次历史性会议已经过去近半个世纪,如今中国工程师再次站在了光刻技术的前沿阵地。 Hyperion-1原型机的亮相只是开始,按计划,2026年Hyperion-2的功率将提升至150瓦,正式进入商用阶段,支持5纳米芯片量产。 全球半导体产业链的每一家企业都在密切关注着中国实验室里的进展,他们清楚:当紫色蘑菇云在俄罗斯上空升起的同时,一场静悄悄的技术革命正在东方发生。 当封锁成为常态,突破也就成为必然,这或许是中国故事给世界的最深刻启示。 欢迎在评论区分享您的真知灼见!



