大利好！大利好来了！
预计明日光刻胶概念要起飞了
一觉醒来，财联社又传来重大利好消息，在光刻胶领域，我国取得了重大新的突破，这项突破主要来自北京大学化学与分子工程学院彭海林教授团队，北京大学这个团队真的太厉害了，光刻胶的重大突破将会有两大利好，第一，对芯片的制造业技术带来显著的进步和提升，对我国芯片发展影响重大。第二，能推动我国半导体光刻胶的自主可控，打破国外对光刻胶技术的国际垄断，能加速我国产业链的构建，总之光刻胶领域的突破，为半导体芯片领域创新发展带来重大惊喜，对于光刻胶领域半导体芯片行业都是重大利好消息
股民们，坐稳扶好了，受此光刻胶利好消息影响，不出意外的话，明日光刻胶产业链将会继续大爆发了，甚至带领整个半导体芯片板块起飞！股票[超话]
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