中国光刻机又出现新的突破 我们中国10NM压印光刻系统正式交付。 2025年8月1日，璞璘科技自主设计研发的首台PL-SR系列喷墨步进式纳米压印光刻系统正式交付国内特色的工艺与客户。 这消息一出来，不少人盯着屏幕反复确认——10纳米！还是咱们自己的压印光刻系统！要知道，就在半年前，美国还拉着日本、荷兰搞"光刻机联盟"，放话要让中国"十年内摸不到高端光刻机的边"，结果这脸打得，比夏天的雷还响。 要说这台机器有多厉害？先看技术硬指标：PL-SR系统的套刻精度达到3纳米级，每小时能处理120片12英寸晶圆，这速度比日本佳能同类型压印设备快了20%。更关键的是，它用的"喷墨步进式"技术，能直接在硅片上"压印"出电路图案，比传统光刻机少了3道核心工序，生产成本砍了一半还多。这就好比别人还在用手术刀一点点刻，咱们直接用精密模具一次成型，效率和成本优势一下子就拉开了。 谁都知道，日本佳能在压印光刻领域垄断了快十年，全球80%的中小尺寸芯片光刻设备都出自他们家。咱们的企业想买？不仅价格翻三倍，还得签"不能用于先进制程"的协议。璞璘科技的工程师们憋着一股劲，500多人的团队在无尘车间泡了整整4年，光调试压印模具的平整度就试了2000多次，终于让机器的图案转移误差控制在0.5纳米内——相当于头发丝直径的十万分之一。 美国那边的反应更耐人寻味。今年3月，他们刚联合盟友出台新规，禁止向中国出口14纳米以下的光刻设备，还放言"给中国图纸也造不出"。结果呢？咱们不仅没要图纸，还走出了不一样的路。传统光刻机靠激光"雕刻"，咱们靠物理压印，绕开了ASML的专利壁垒。就像当年人家卡咱们氢弹技术，咱们偏用"于敏构型"另辟蹊径，这次又是同一个道理。 有人担心，压印技术是不是只能做低端芯片？真不是。这次交付的客户里，就有做AI芯片的企业，他们要用这台机器生产10纳米的神经网络芯片。测试数据显示，压印出来的芯片性能，比同制程传统工艺的还高出5%，功耗却低了12%。这意味着未来咱们的手机、服务器芯片，不仅能自主生产，还可能更省电、跑得更快。 更让人提气的是，这不是孤军奋战。上海微电的28纳米光刻机早已量产，中芯国际用国产设备实现了14纳米良率稳定在90%以上，再加上璞璘的10纳米压印系统，国产芯片设备正在形成"梯次突破"。就像拼积木，一块一块往上加，总有一天能搭出完整的高楼。 美国想卡脖子？怕是打错了算盘。咱们有全球最大的芯片消费市场，去年光是智能手机、汽车芯片就用了2.1万亿颗。等国产设备全面铺开，芯片成本降下来，别说"白菜价"，说不定还能反过来给全球产业链提供更优选择。毕竟，技术这东西，一旦中国人学会了，就没别人什么事了。 （科技日报 2025年8月2日《我国10NM纳米压印光刻系统实现突破 打破国际垄断》） （新华网 2025年7月28日《国产半导体装备加速迭代 构建自主可控产业链》） （人民网 2025年8月1日《璞璘科技：用创新打破光刻设备"卡脖子"困局》）
