光刻机其实是分前道、后道这两种的。

前道指芯片制造，后道指芯片封测，前道相对而言难度更大，门槛也更高。

数据显示，目前全球仅四家厂商，能够制造前道光刻机，这四家分别是荷兰的ASML、中国的上海微电子，日本的尼康、佳能。

而从技术上来看，ASML肯定是独霸全球的，接着是尼康，再是佳能和上海微电子。

这四大厂商的工艺技术对比，大家可以看一下下图，ASML是第一档，达到了EUV的水平，也是唯一有EUV光刻机的厂商。

而尼康是第二档，达到了浸润式DUV也就是ArFi的水平。至于上海微电子、佳能差不多，属于第三档，还没能进入浸润式DUV ArFi，还只在ArF、KrF等水平上。

当然，这只是技术水平对比，如果从销量来对比，我们会发现一个可能让大家无法接受的事实，那就是全球的前道光刻机市场，几乎就是ASML、尼康、佳能的天下。

下图是某机构整理的2024年全球前道光刻机市场的数据。分类型的销量，分公司的销量。

大家能够看到，ASML在EUV方面达到100%，在ArFi方面也达到96.99%，在ArF方面也达到了80%，绝对的垄断超高端、高端市场。

而尼康在ArFi上有3%的份额，在ArF上有20%的份额。至于佳能，则只能在更落后的KrF、i线等光刻机上，有一定的销量，特别是i线，那佳能占比最高。

但是，大家注意到没有，上海微电子在这表上，一台都没有展示出来，完全是另外三家的天下。

那这是怎么回事呢，有人说是国产光刻机的销量为0，也有人说是根本就没有统计。

事实上，肯定不是0，而是没有统计，因为上海微电子并不是上市企业，也不需要披露数据，且对中国而言，光刻机的研发、销量、进展，本来就是保密的，更不会公开出来。

所以机构根本就获取不到数据，只能忽略掉，不将其统计在内了，所以大家就看不到数据，以为是0。

事实上，目前国产光刻机还是有很多突破的，之前就曝光了氟化氩光刻机，分辨率小于等于65nm，套刻小于等于8nm，这台明显是前道光刻机。

至于这些光刻机出货多少，卖给了谁，谁在用，都是机密数据，不会公开，自然就统计不到了。

最近有外媒体甚至称，中国产的光刻机，其实已经进入到了ArFi的水准，也就是浸润式，当然真假未知，但大家可以放心事，销量绝不可能是0，且未来突破到EUV，也不是不可能的。