中国永远都造不出光刻机？“去年，中国一位物理学教授在一次采访中直言：“美国都造不出，中国永远也造不出来！“甚至认为世界上没有一个国家能造出光刻机。 这话乍一听挺刺耳，其实犯了个常识性错误——把“刻蚀机”和“光刻机”搞混了。刻蚀机是“芯片雕刻师”，负责在硅片上刻出复杂电路。 咱们国家的中微半导体早就做到了世界一流，7纳米刻蚀机直接打进台积电生产线，连美国企业都得排队买。 但光刻机更像“芯片画家”，得把电路图精准投影到硅片上，尤其是极紫外（EUV）光刻机，全球90%以上被荷兰ASML垄断，咱们确实还在追赶。 朱士尧教授当年说那话，估计是没搞清楚这俩“机”压根不是一码事，就像把“铣床”和“打印机”混为一谈，闹了个乌龙。 ASML的EUV光刻机有10万个精密零件，光镜头组就值一辆保时捷，光源系统用的是波长13.5纳米的极紫外光，相当于头发丝的万分之一，咱们连这种光源的核心部件都曾被卡脖子。 更麻烦的是，美国联合荷兰、日本搞技术封锁，2023年连1980i型DUV光刻机都限制出口，生怕咱们摸到门道。 但要说“永远造不出”，那就太小看中国工程师了，这几年咱们的突破可不少。 上海微电子的28纳米光刻机已经量产，虽说跟ASML的7纳米EUV差了几代，但别忘了，28纳米能满足汽车电子、物联网等80%的民用需求，咱们先把“能用”的关过了。 更关键的是，上游技术在逐个攻破，中科院研发出13.5纳米光源原型机，合肥芯碁微装的直写式光刻机绕过了传统光刻的部分瓶颈。 芯国际用国产DUV光刻机试产14纳米芯片，虽说良率低点，但好歹迈出了第一步。这些进步就像爬坡，看着慢，其实每一步都在积累。 中国有完整的工业体系和举国体制优势，造光刻机需要高精度轴承，哈尔滨轴承厂能啃下来，需要光刻胶，北京科华已经量产28纳米级产品； ASML也是靠吸收美国、德国的技术，用了30年才登顶，咱们从2000年开始布局，到现在20多年，已经从“啥都没有”变成“啥都能搞一点”，假以时日，追上只是时间问题。 光刻机现在确实是短板，但绝不是绝症。咱们不跟ASML比今天的速度，咱们比谁的耐力更久——你垄断技术，我就打通全产业链。 你搞封锁，我就培育本土生态，等哪天上海微电子的EUV光刻机搬上生产线，那些说“永远造不出”的人，估计得把当年的话吞回去。 中国工程师最擅长的就是把“不可能”变成“试试看”，再把“试试看”变成“干成了”。光刻机这事儿，咱们现在是还在跑第二梯队，但跑道还长，只要不被杂音干扰，闷头往前跑，终点总会到的。 那些断言“永远造不出”的人，要么是不懂技术发展的规律，要么是忘了中国工业创造过多少奇迹——而奇迹，从来都是留给坚持到底的人。
