半导体展新凯莱表现惊艳但未有光刻机计划 新凯莱展示系列检测,沉淀和刻蚀设备,但未有光刻机,水平是14纳米,与华为中芯合作DUV自对准多重曝光技术,新凯莱检测产品起很大作用。 多层封装是本次展会主题,10个14纳米芯片封装达到3纳米水平,华为9100要秋季之后。 北方华创计划光刻机,与上海微电形成两家光刻机厂家。
半导体展新凯莱表现惊艳但未有光刻机计划 新凯莱展示系列检测,沉淀和刻蚀设备,但未
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2025-03-30 11:09:45
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