都是名山，以为是地理，原来是科技！华为不愧为中国科技抗把子的，本来以为上海微电子

都是名山，以为是地理，原来是科技！华为不愧为中国科技抗把子的，本来以为上海微电子在光刻机领域扛大旗，结果还是华为自己来。新凯莱一面世就引起超级轰动，这是华为星光工程部拆分而来的深圳国资控股高科技公司，有国资和华为的双重支持，技术炸裂，专注于半导体制造核心装备研发与生产，其产品以“中国名山”系列为代表，突破国外垄断技术，覆盖光刻全流程设备。上海半导体展一口发布了覆盖半导体制造全流程产品： 薄膜沉积设备 普陀山：PVD（物理气相沉积） 长白山：CVD（化学气相沉积） 阿里山：ALD（原子层沉积） 刻蚀设备 武夷山：ETCH（刻蚀机） 扩散装备 三清山：RTP（快速热退火） 峨眉山：EPI（外延沉积） 量检测装备 光学检测： 岳麗山：BFI（明场检测） 丹霞山：DFI（暗场检测） 蓬莱山：PC（缺陷检测） 莫干山：MBI（多光束成像） 光学量测： 天门山：IBO（基于成像的套刻量测） 天门山：DBO（基于衍射的套刻量测） PX量测： 沂蒙山：AFM（原子力显微镜） 赤壁山：XPS（X射线光电子能谱）、XRD（X射线衍射）、XRF（X射线荧光） 功率检测设备 RATE系列：CP、KGD、FT（未标注山名） 技术亮点 峨眉山（EPI）：专攻先进制程及第三代半导体外延层技术。 阿里山（ALD）：支持5nm及更先进制程 普陀山（PVD）：金属镀膜精度达微米级，已进入中芯国际验证阶段。 长白山（CVD）：适配5nm工艺，兼容多种制程节点。