目前全球知名的光刻机厂商其实就4家，一家是荷兰的ASML，一家是中国大陆的上海微电子，还有两家是日本的尼康、佳能。

当然，大哥是ASML，覆盖了高、中、低端，特别是EUV光刻机，全球只有他一家能够生产。而尼康则达到了中端，至于佳能、上海微电子，则还是低端。

这三大企业，各自所处的位置，也给大家放一张图，大家就会明白为什么ASML是王者了。

如下图所示，只有ASML达到了EUV水平，而在浸润式方面，依然还是ASML为王，尼康虽然也有，但出货量极少，至于佳能、上海微电子，大家看图就会明白的，不用我多说了。

光刻方案是目前大规模制造芯片的唯一方案，其它的像什么电子束、纳米压印等，都实现不了大规模制造，只能小批量，所以研发光刻机，是中国芯片产业绕不过的。

这些年，上海微电子在研发，还有新凯莱等也在研发，近日传出消息，那就是有一家国产企业，研发出了首台350nm步进光刻机，并且完成了出厂调试与验收，启程发往客户现场。

当然了，说起来350nm的步进光刻机，按照这种第几代来算，确实不算先进，属于第二代产物，而目前像ASML早达到了第6代，并且是第六代EUV的第二代Hige NA EUV了。

但是，不能单纯的看350nm这个分辨率，这台350nm的步进式光刻机，主要是用于以碳化硅（SiC）新型芯片领域的。

要知道碳化硅（SiC）这种芯片，现在广泛用于5G通信、新能源汽车、光通信、激光雷达、Micro LED，已经是越来越重要，被称之为第二代半导体。

这些半导体的制造，对工艺要求不那么高，但是同样需要高精度、高稳定性的光刻工艺支持。

所以这台步进式350nm的光刻机，就是为了这些芯片而生的，并不能单纯以350nm分辨率来判定它就是低端的光刻机，好就片面了。

另外，芯上微装这家公司，他是从上海微电子分拆出来的，继承了上海微电子的一些技术和订单，所以技术实力是非常强的。

接下来，就让我们期待一下，这家国产光刻机厂商，再创更多的辉煌。