台积电副共同营运长张晓强在2026年4月的一场论坛上，被问到要不要买ASML最新一代High-NA EUV光刻机。他的回答很直接：暂时不买，因为“非常非常贵”。单台超过3.5亿欧元，折合人民币近28亿元。上一代Low-NA EUV的价格大约是2亿欧元，新一代直接跳到了1.8倍。

一台设备的售价，抵得上一座中型城市的年度预算。而让它贵的，不是钢铁，不是铜线，不是那几万个精密零件里的绝大多数。

是十几面镜子。
光不拐弯，只能被“弹”过去
EUV光刻机用的光，波长13.5纳米。这个波长的光有一个近乎荒诞的性质：几乎所有材料都会吸收它。空气吸收，玻璃吸收，透镜吸收。传统光学里靠折射控制光路的那套办法，在13.5纳米面前彻底失效。

光不能穿过任何东西，就只能被反射。EUV光刻机的整个光学系统，没有一片透镜，全部由反射镜组成。光从光源出发，经过收集镜、照明镜组、掩模版、投影镜组，一路被“弹”向晶圆。每一面镜子都要在真空里工作，因为哪怕残留一点气体分子，都会吃掉本就所剩无几的光强。

所以EUV光刻机里装的不是镜头，是一组反射镜。而这组反射镜的精度，决定了整台机器的命运。

把德国放大到镜子那么大，起伏不超过0.1毫米

蔡司为High-NA EUV制造的最大镜面，直径达到1.2米。它的表面粗糙度是20皮米，均方根值。面精度，峰值与谷值之间的差值，只有0.12纳米。

0.12纳米是什么概念？一个硅原子的直径是0.25纳米。整面镜子最高点和最低点之间的落差，不到半个硅原子。如果把这块镜面放大到德国国土的面积，表面起伏不超过0.1毫米。

光在到达晶圆之前，要在十几面这样的镜子之间反复反射。每一次反射，误差都会被放大。所以镜面的平整度必须比光刻本身要分辨的尺度还要低上大约一千倍，才有资格被放进光路里。

这不是抛光。这是在原子尺度上，让一整块材料的表面学会“不动”。
镜子的核心，不是那一层表面
真正让反射镜成为EUV光刻机心脏的，是表面之下那几十层、上百层交替镀上去的薄膜。

EUV光不是靠金属表面直接反射的。它依赖的是布拉格反射：钼和硅交替叠成多层膜，每一层的厚度精确到纳米级别，通过层与层之间的相长干涉，把13.5纳米的光一点一点“攒”出反射率。早期EUV反射镜需要50对以上的钼/硅双层，每一层的厚度误差不能超过0.01纳米。到了High-NA时代，蔡司的镜片模组由超过一百层镀膜构成。

一百层，每层误差不超过百分之一纳米。这意味着镀膜过程不是“涂上去”，而是在原子尺度的秩序里，让两种材料按照精确的节奏交替生长。任何一层厚了一点点，或者界面粗糙了一点点，反射率就会掉下去，整组镜子的光通量就不够用了。

而一套High-NA EUV的光学系统，包含超过4万个投影光学元件，重量约12吨，是标准EUV光学系统体积和重量的七倍。单个High-NA镜头的重量就达到数百公斤。
一年，一套镜子
蔡司制造一套这样的镜组，需要超过12个月。

这不是一条可以靠加班提速的产线。镜坯的制备、离子束抛光到原子级平整、上百层镀膜的逐层沉积、镀膜后的面形复测与补偿、整组镜子的装调与对准——每一步的节拍由物理过程本身决定，不由排产计划决定。蔡司在奥伯科亨和韦茨拉尔的两个基地，是全球唯一能建造ASML光刻机所需光学器件的地方。产能不是钱能瞬间买来的东西：蔡司从2022年开始扩建厂房，到2026年首座大楼才完工，员工方才迁入。

而蔡司是ASML EUV光学系统全球唯一的供应商。全球EUV反射镜市场，近乎由它独占。一套High-NA EUV光刻机由超过十万个精密零件组成，蔡司只做光学那一块，但这一块的技术壁垒，把整台机器的产出节奏锁在了自己手里。蔡司半导体制造部的产能，直接决定了ASML能不能完成2027年增产30%的目标。
贵的不是镜子，是“不可替代”
光学系统在EUV光刻机成本中的占比大约在24%到28%之间。光源系统占15%到27%，双工件台占12%到15%。三大核心部件合计超过整机价值的一半。

但成本占比解释不了“贵”的全部。真正让一台High-NA EUV卖到4亿美元的，是这些数字背后那条极窄的通道：全世界只有一家公司能造出符合要求的光学系统，这套系统里的每一面镜子需要一年时间制造，而整台机器有几万个零件在等着这一套镜子就位。供给的节奏不由市场决定，由原子决定。

蔡司说，如果把一面反射镜的光束反射到月球，精准度足以击中月球表面的一颗乒乓球。这句话听起来像炫耀，其实是在描述一种工程状态：当精度推到物理极限附近时，能够站在那里的人，本身就变成了瓶颈。

所以光刻机贵，不是因为它装了很多昂贵的东西。是因为它里面那十几面镜子，每一面都代表着人类在原子尺度上控制物质的极限。而极限之所以是极限，是因为越过它的人，全世界只有那么一个。